[发明专利]晶须补强氮化硅复合材料制造方法无效
| 申请号: | 91100598.6 | 申请日: | 1991-02-04 |
| 公开(公告)号: | CN1026482C | 公开(公告)日: | 1994-11-09 |
| 发明(设计)人: | 柳光祖;宋慎泰 | 申请(专利权)人: | 冶金工业部钢铁研究总院 |
| 主分类号: | C04B35/80 | 分类号: | C04B35/80;C04B35/58 |
| 代理公司: | 冶金专利事务所 | 代理人: | 金向荣,张小娟 |
| 地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶须补强 氮化 复合材料 制造 方法 | ||
本发明属于一种碳化硅晶须补强氮化硅复合材料的制造方法。用此方法可以制出耐高温、耐腐蚀、耐磨损及抗氧化等性能的工程结构材料,可以用来制做发动机零部件、车刀、拉丝模等产品。
目前,晶须补强复合材料多采用外加晶须的方法,但由于晶须本身价值昂贵,得到的复合材料价格高,又受到来源的限制,并且需要很复杂的工艺对晶须进行处理和分散;因此,如何能得到在制备过程中自身生成一定数量晶须的复合材料,是人们的努力方向之一。日本专利J63-182254公开了一种晶须补强Al2O3成形体的制造方法,是将Al2O3、SiO2与碳黑在1600℃进行反应;即SiO2+3C→SiC(w)+2CO↑,这样,基体Al2O3不会参加反应而发生变化,即可得到Al2O3基SiC晶须复合材料。对于Si3N4基SiC晶须复合材料J63-64969,64970,64971公开了一系列Si3N4-SiC(w)烧结体的制造方法,是以Si粉或Si粉和Si3N4为原料,采用在N2气氛中反应烧结法先制备出Si3N4质坯体,然后在C3H8+H2+H2S混和气体中合成SiC晶须,最后采用气压烧结法制备出致密的复合材料,性能为δb~750MPa,KIC~8.0MPa·m1/2,但未见介绍高温性能。该工艺过程较复杂,气源要求苛刻,因此其实施和应用受到一定限制。
本发明的目的旨在克服上述已有技术之缺点,得到一种工艺简单、易于实施,并可得到较高高温性能的复合材料的制造方法。
为实现上述目的,本发明是这样实现的:将Si3N4、SiO2、碳黑及助烧结剂等粉末混合,在一定温度(1500~1900℃)、一定N2压力(1.1~10atm)下合成SiC晶须,然后在600~700℃、空气中脱碳1~3h。再于1700~1900℃下热压0.5~2h,即可得到Si3N4-SiC(w)复合材料。
下面对本发明进一步详细叙述。
本发明得到的Si3N4-SiC(w)复合材料的制造方法为:将重量比为50~70%Si3N4(粒度<0.3μm)、15~25%SiO2(粒度<100μm)、10~20%碳黑、3~8%助烧结剂在无水乙醇介质中混合均匀,烘干后过筛。把此混合原料装入石墨坩埚内,在1.1~10atmN2压力下,1500~1900℃合成1~2h,然后在Al2O3盘内700℃空气中脱碳1~3h。将脱C后的复合原料装入涂有BN的石墨模具内,于1700~1900℃,30MPa,N2气氛下热压0.5~2h,即可得到相对密度大于99%复合材料。
本发明所用的原料为Si3N4、SiO2和碳黑,为保证在高温下合成SiC晶须时,Si3N4基体不致分解,需采用N2进行保护,但由于N2的参与,Si3N4、SiO2C和N2之间在高温(1600℃)下可能会发生很复杂的化学反应,归结起来主要有以下三个反应:
△G01=137500+3TlgT-92.44T Cal
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