[发明专利]卤素交换氟化反应

权利要求书

1、一种使带有至少一个可置换的非氟卤素的饱和卤化碳氟化成分子内比该饱和卤化碳多至少一个氟的氟化烃的卤素交换氟化方法，该方法包括下列步骤：(1)使饱和卤化碳与含至少50%(摩尔)式MF·nHF化合物的无水熔融组合物紧密接触，其中“M”为Cs或Rb中的至少一个，“n”为约0.5～3的数字；接触温度的范围为约30℃至低于所述卤化碳或所述氟化烃分解温度中较低者的温度；接触压力和时间足以生成至少一种分子内比所述饱和卤化碳多至少一个氟的所述氟化烃反应产物，以及氟化物含量至少部分减少而非氟卤化物含量增加的残留熔融组合物；(2)从残留熔融组合物中分离并回收氟化反应产物。

2、如权利要求1所述的方法，其中“M”为Cs。

3、如权利要求2所述的方法，其中“n”为0.5。

4、如权利要求1所述的方法，其中所述饱和卤化碳为HCFC-133a，所述氟化烃为HFC-134a。

5、如权利要求1所述的方法，其中所述饱和卤化碳为HCC-150，所述氟化烃为HFC-152。

6、如权利要求1所述的方法，其中所述饱和卤化碳为HCFC-133a、氯仿、四氯化碳、HCFC-132a、HCFC-131a、HCFC-123、HCC-150或HCFC-141。

7、如权利要求1所述的方法，其中所述饱和卤化碳为HCFC-132a，所述氟化产物为HFC-134。

8、如权利要求1所述的方法，其中“n”为约0.5-1的数字。

9、如权利要求1所述的方法，其中所述温度为约200-350℃。

10、如权利要求1所述的方法，其中所述压力为约大气压（14.7磅/平方英寸）至约1500磅/平方英寸。

11、如权利要求1所述的方法，其中所述接触步骤的时间为0.5分钟至约120分钟。

12、权利要求1的方法，其中所述残留熔融组合物用HF处理而得到在所述熔融组合物中含有大量MF·nHF的无水熔融组合物和HX，其中X为非氟卤素。

13、一种使HCFC-133a氟化的方法，包括：（1）在约180-350℃的温度下，使HCFC-133a与熔融的CsF·nHF紧密接触而生成HFC-134a，其中“n”为约0.5-1的数字;（2）以气体形式分离所述HFC-134a，并使所述气体冷却而回收液体HFC-134a。

14、如权利要求1所述的方法，其中HF和所述卤化烃连续地同时进料而与所述无水熔融组合物接触，生成所述氟化的卤化烃和HCl，同时再生出所述熔融组合物。