[发明专利]萘衍生物及其合成的中间体的制备方法无效

专利信息
申请号: 90100376.X 申请日: 1990-01-20
公开(公告)号: CN1044649A 公开(公告)日: 1990-08-15
发明(设计)人: 岩崎为雄;大水博;高桥政巳 申请(专利权)人: 田边制药株式会社
主分类号: C07C65/26 分类号: C07C65/26;C07C65/11;C07C65/17;C07C65/36;C07C255/52;C07D307/92
代理公司: 上海专利事务所 代理人: 全永留
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 衍生物 及其 合成 中间体 制备 方法
【权利要求书】:

1、一种制备下式萘衍生物或其药学上可接受的盐的方法:

(其中R1和R2是低级烷氧基羰基或者两者可结合在一起形成式为:的基团;R3和R4中的一个是氢原子或低级烷氧基,另一个是低级烷氧基;环A是取代或非取代苯环),其特征在于它包括下列步骤:

A.将下式的氧基-四氢化萘化合物、其烯醇式互变异构体或它的盐进行氧化反应:

(其中R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),

B.如果需要,再将产物转变成药学上可接受的盐。

2、一种制备下式萘衍生物或其药学上可接受的盐的方法:

(其中R1和R2是低级烷氧基羰基或者两者可结合在一起形成式为的基团;R3和R4中的一个是氢原子或低级烷氧基,另一个是低级烷氧基;环A是取代或非取代苯环),其特征在于该方法包括下列步骤:

A.用氟离子供体处理下式的被保护的含氧基-四氢化萘化合物或其药学上可接受的盐:

(其中R5是用于羟基的保护基团;R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),给出下式氧代-四氢化萘化合物:

(其中R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),

B.将上述的氧代-四氢化萘化合物、它的烯醇式互变异构体或它的盐进行氧化,

C.如果需要,再将产物转变成其药学上可接受的盐。

3、一种制备下式萘衍生物或其药学上可接受的盐的方法:

(其中R1和R2是低级烷氧基羰基或者两者可结合在一起形成式为:的基团;R3和R4中的一个是氢原子或低级烷氧基,另一个是低级烷氧基;环A是取代或未取代的苯环),其特征在于该方法包括下列步骤。

A.使下式的三种化合物进行反应:

(其中R5是用于羟基的保护基团,R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),

B.再用酸处理产物给出下式被保护的含氧基-四氢化萘化合物:

(其中R1、R2、R3、R4、R5和环A的定义同上),

C.用氟离子供体处理该产物或它的盐给出下式氧代-四氢化萘:

(其中R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),

D.将上述的氧代-四氢化萘化合物,其烯醇式互变异构体或它的盐进行氧化反应,

E.如果需要,将产物转变成其药学上可接受的盐。

4、根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于其中的环A是非取代的苯环;低级亚烷基二氧基取代的苯环或者是被1-3个取代基所取代的苯环,其中取代基选自由低级烷氧基、低级烷基、苯基-低级烷氧基、羟基和卤原子所组成的组。

5、根据权利要求4所述的方法,其特征在于其中R1和R2是低级烷氧基羰基;R3和R4是低级烷氧基;环A是式为的取代苯环,(其中Rd、Re和Rf是低级烷基)。

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