[发明专利]萘衍生物及其合成的中间体的制备方法无效
| 申请号: | 90100376.X | 申请日: | 1990-01-20 |
| 公开(公告)号: | CN1044649A | 公开(公告)日: | 1990-08-15 |
| 发明(设计)人: | 岩崎为雄;大水博;高桥政巳 | 申请(专利权)人: | 田边制药株式会社 |
| 主分类号: | C07C65/26 | 分类号: | C07C65/26;C07C65/11;C07C65/17;C07C65/36;C07C255/52;C07D307/92 |
| 代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 全永留 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 衍生物 及其 合成 中间体 制备 方法 | ||
1、一种制备下式萘衍生物或其药学上可接受的盐的方法:
(其中R1和R2是低级烷氧基羰基或者两者可结合在一起形成式为:的基团;R3和R4中的一个是氢原子或低级烷氧基,另一个是低级烷氧基;环A是取代或非取代苯环),其特征在于它包括下列步骤:
A.将下式的氧基-四氢化萘化合物、其烯醇式互变异构体或它的盐进行氧化反应:
(其中R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),
B.如果需要,再将产物转变成药学上可接受的盐。
2、一种制备下式萘衍生物或其药学上可接受的盐的方法:
(其中R1和R2是低级烷氧基羰基或者两者可结合在一起形成式为的基团;R3和R4中的一个是氢原子或低级烷氧基,另一个是低级烷氧基;环A是取代或非取代苯环),其特征在于该方法包括下列步骤:
A.用氟离子供体处理下式的被保护的含氧基-四氢化萘化合物或其药学上可接受的盐:
(其中R5是用于羟基的保护基团;R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),给出下式氧代-四氢化萘化合物:
(其中R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),
B.将上述的氧代-四氢化萘化合物、它的烯醇式互变异构体或它的盐进行氧化,
C.如果需要,再将产物转变成其药学上可接受的盐。
3、一种制备下式萘衍生物或其药学上可接受的盐的方法:
(其中R1和R2是低级烷氧基羰基或者两者可结合在一起形成式为:的基团;R3和R4中的一个是氢原子或低级烷氧基,另一个是低级烷氧基;环A是取代或未取代的苯环),其特征在于该方法包括下列步骤。
A.使下式的三种化合物进行反应:
(其中R5是用于羟基的保护基团,R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),
B.再用酸处理产物给出下式被保护的含氧基-四氢化萘化合物:
(其中R1、R2、R3、R4、R5和环A的定义同上),
C.用氟离子供体处理该产物或它的盐给出下式氧代-四氢化萘:
(其中R1、R2、R3、R4和环A的定义同上),
D.将上述的氧代-四氢化萘化合物,其烯醇式互变异构体或它的盐进行氧化反应,
E.如果需要,将产物转变成其药学上可接受的盐。
4、根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于其中的环A是非取代的苯环;低级亚烷基二氧基取代的苯环或者是被1-3个取代基所取代的苯环,其中取代基选自由低级烷氧基、低级烷基、苯基-低级烷氧基、羟基和卤原子所组成的组。
5、根据权利要求4所述的方法,其特征在于其中R1和R2是低级烷氧基羰基;R3和R4是低级烷氧基;环A是式为的取代苯环,(其中Rd、Re和Rf是低级烷基)。
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