[发明专利]一种提高聚苯乙炔光敏性的方法无效

专利信息
申请号: 88104313.3 申请日: 1988-07-07
公开(公告)号: CN1016613B 公开(公告)日: 1992-05-13
发明(设计)人: 杨慕杰;赵健 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C08J3/28 分类号: C08J3/28
代理公司: 浙江大学专利代理事务所 代理人: 陈祯祥
地址: 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 乙炔 光敏 方法
【说明书】:

发明属于制造高分子感光材料的技术。

聚苯乙炔是一种高度共轭的聚合物,理论上有四种异构体:顺-顺式、顺-反式构型(统称顺式),反-顺式和反-反式构型(统称反式)。均具有光导、电导、顺磁、能量转换和迁移等特性,有作为功能性材料开发应用的前景。自1955年Natta采用Ziegler-Natta催化剂合成聚苯乙炔以来,已有很多研究报导〔C.I.Simionescu,V.Percec,Prog.Polym.Sci,8.113(1982)〕,但制得的聚苯乙炔都是粉末或凝胶,电阻率为1012-18欧·厘米,属绝缘体。近年来采用I2,ASF5,DDQ(2、3-dichloro-5、6-dicyanc-P-benzcquinone)对聚苯乙炔进行掺杂,形成电荷转移络合物,或用染料(焦宁、亚甲基兰)敏化,可使聚苯乙炔显示半导体、光导体特性和较好的红外光敏性,但这些掺杂及敏化技术对反式聚苯乙炔比较有效,而对顺式聚苯乙炔效果较差。

本发明的目的是通过使用辐照方法,使高顺式聚苯乙炔具有高的红外光敏性,可作为感光材料进行开发应用,如制作静电复印机光鼓的感光材料等。

本发明的中心内容是采用我们先前开发的直接成膜聚合法〔杨慕杰、赵健、沈之荃、中国稀土学报5(2),9,(1987)〕来制备高顺式聚苯乙炔膜。然后分别采用二种方法来提高顺式聚苯乙炔的光敏性:

1.膜在一定压力下(500~700Kg/cm2)受压后,用能量:0.8~1.8mev;通量:大于1×1015e/cm2的电子束辐照。

2.膜在一定压力(500~700Kg/cm2)受压后,用大于1×104Gy剂量的60Coγ射线辐照,或先制成聚苯乙炔的Photoreceptor(P/R)元件,然后用大于1×104Gy剂量的60Coγ射线辐照。聚苯乙炔的P/R元件由三层组成:第一层铝片基,铝片经清洗烘干;第二层有机玻璃,用有机玻璃配成5~10%浓度的氯仿溶液,然后均匀涂在第一层铝片基上,于40℃烘干;第三层为高顺式聚苯乙炔/有机玻璃,即用高顺式聚苯乙炔与有机玻璃按100∶5(重量比)混合,配成氯仿稀溶液均匀涂在第二层有机玻璃上,于40℃烘干。

辐照后的样品,置于250W红外灯下,采用表面电位放电技术来衡量其光敏性,暗衰越小,光引发表面电位放电速率越高,即光敏性越好。

附图说明:

图1表示电子束辐照高顺式聚苯乙炔的光引发放电曲线、电子束能量:1.8mev;电子束通量:3×1015e/am2;测量条件:光源:250W红外灯;光源与样品距离11cm。

图2表示60Coγ射线辐照高顺式聚苯乙炔膜的光引发放电曲线。60Coγ射线剂量2×105Gy,测量条件同图1。

图3表示60Coγ辐照高顺式聚苯乙炔P/R元件的光引发放电曲线。60Coγ射线剂量:5×104Gy,测量条件同图1。

图4表示未经辐照的高顺式聚苯乙炔膜的光引发放电曲线,测量条件同图1。

参照附图说明实施例及其结果:

聚苯乙炔膜本身红外光敏性是很差的,经辐照技术处理后的高顺式聚苯乙炔膜或P/R元件,有良好的红外光敏性,而暗衰较小,正符合作为感光材料的要求。具体情况分别叙述如下:

一、采用60Coγ辐照:

1.用2×105Gy辐照高顺式聚苯乙炔膜,其表面电位最大放电速率为618v/s,暗衰1.9v/s。随着辐照剂量增加,光引发放电速率增加,即光敏性增加。

2.聚苯乙炔(P/R)元件比聚苯乙炔膜对60Coγ射线辐照效果更好,采用5×104Gy剂量辐照P/R元件的表面电位最大放电速率达617v/s,暗衰3v/s。

3.60Coγ的辐照效应与聚苯乙炔的微结构紧密相关,高顺式聚苯乙炔必须包含有顺-反式构型的聚苯乙炔才有好的辐照效应。

二、采用电子束辐照:

随着电子束能量及通量的增加,聚苯乙炔膜的光引发放电速率增加,即红外光敏性增加。这二因素中,能量因素是主要的,采用1.8mev能量,3×1015e/cm2通量的电子束辐照高顺式聚苯乙炔膜,其表面电位最大放电速率为892v/s,暗衰5v/s。

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