[实用新型]光刻定焦系统和光刻设备

说明书

本实用新型公开一种光刻定焦系统和光刻设备，光刻定焦系统包括自物侧至像侧依次设置有第一透镜组、光阑和第二透镜组，通过两个透镜组的各个透镜的曲率半径、厚度和折射率的设置与相互搭配，使得所述光刻定焦系统形成双远心光学系统，且物方和像方的主波长远心度均控制在±0.1°以内，物方有效视场达到φ22.5mm，物方数值孔径为0.025，像方数值孔径可以达到0.5，理论光刻分辨力可达到0.5μm，所述光刻定焦系统在383±10nm波段透过率较高，优化了公差，降低了装配敏感度，以解决现有光刻镜头的镜片公差严格带来的加工装配以及量产困难问题。

技术领域

本实用新型涉及光学技术领域，尤其涉及光刻定焦系统和光刻设备。

背景技术

随着目前国内微纳加工行业的不断发展，对于大数值孔径无掩膜紫外窄波段光刻镜头的需求也在不断增加，这种类型的镜头无需菲林，更高效，且曝光线宽更窄，可用于制作各种微纳器件。

目前国内紫外大数值窄波段投影光刻镜头的发展属于起步阶段，配套镜头设计以及制造技术不成熟，所以目前该类镜头公差较为严格，增大了加工以及装调困难程度，导致难以实现规模量产。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种光刻定焦系统和光刻设备，旨在解决现有光刻镜头的镜片公差严格带来的加工装配以及量产困难问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种光刻定焦系统，所述光刻定焦系统具有沿光轴方向呈相对设置的物侧和像侧，所述光刻定焦系统包括自物侧至像侧依次设置的第一透镜组、光阑和第二透镜组，所述第一透镜组和所述第二透镜组形成双远心光路，以使得在383±10nm波段下工作的成像清晰，物方和像方的主波长远心度均控制在±0.1°以内，物方有效视场达到φ22.5mm，物方数值孔径为0.025，像方数值孔径可以达到0.5，理论光刻分辨力可达到0.5μm。

可选地，所述第一透镜组包括第一透镜、第二透镜和第三透镜；

所述第二透镜组包括第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜、第八透镜、第九透镜、第十透镜、第十一透镜；

其中，所述第一透镜的光焦度为正；所述第二透镜的光焦度为正；所述第三透镜的光焦度为负；所述第四透镜的光焦度为负；所述第五透镜的光焦度为正；所述第六透镜的光焦度为正；所述第七透镜的光焦度为负；所述第八透镜的光焦度为正；所述第九透镜的光焦度为正；所述第十透镜的光焦度为正；所述第十一透镜的光焦度为正。

可选地，所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜、所述第四透镜、所述第五透镜、所述第六透镜、所述第七透镜、所述第八透镜、所述第九透镜、所述第十透镜、所述第十一透镜均为球面透镜。

可选地，所述第一透镜的物侧面的曲率半径为R1，像侧面的曲率半径为R2，其中，87.29mm≤R1≤93.29mm，-232.979mm≤R2≤-226.979mm；

所述第二透镜的物侧面的曲率半径为R3，像侧面的曲率半径为R4，其中，16.265mm≤R3≤22.265mm，37.242mm≤R4≤43.242mm；

所述第三透镜的物侧面的曲率半径为R5，像侧面的曲率半径为R6，其中，-170.497mm≤R5≤-164.497mm，7.615mm≤R6≤13.615mm；

所述第四透镜的物侧面的曲率半径为R7，像侧面的曲率半径为R8，其中，-106.266mm≤R7≤-100.266mm，90.635≤R8≤96.635mm；

所述第五透镜的物侧面的曲率半径为R9，像侧面的曲率半径为R10，其中，R9＝1E+18mm，-47.05mm≤R10≤-41.05mm；

所述第六透镜的物侧面的曲率半径为R11，像侧面的曲率半径为R12，其中，66.479mm≤R11≤72.479mm，-130.27mm≤R12≤-124.27mm；