[实用新型]一种抛光装置有效

专利信息
申请号: 202320307444.4 申请日: 2023-02-23
公开(公告)号: CN219359168U 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 杨学辉;张慧;李扬 申请(专利权)人: 北京亦盛精密半导体有限公司
主分类号: B24B55/03 分类号: B24B55/03
代理公司: 北京东方芊悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11591 代理人: 凌云
地址: 102600 北京市大兴区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 装置
【说明书】:

本实用新型涉及一种抛光装置,包括抛光机头、铁台、套设在铁台外部的储液槽、储液桶、抛光液排出管、抛光液回液管,抛光机头的抛光端安装有抛光垫,储液槽的槽底设置有与铁台相匹配的安装孔,抛光液排出管处安装有水泵一,抛光液回液管处安装有水泵二,所述铁台的顶部设置有柔性磁垫,所述抛光液回液管的尾端设置有过滤器,所述过滤器位于储液槽的槽底。所述抛光装置可在现有加工中心外部可实现抛光液循环,可完成产品在加工中心的精抛光工艺,避免抛光液混入价格中心机床内部,且抛光完毕可拆除装置,进行其它产品正常加工,操作灵活,简便。所述所述抛光装置的安装、拆卸操作简单方便,实施效果好。

技术领域

本实用新型涉及一种抛光装置,属于石英产品抛光技术领域。

背景技术

发明主要为解决硅和石英产品的圆环抛光问题:一些硅和石英材料需要使表面一定范围平整光滑,而其它区域的表面需保持喷砂面。加工抛光面需要在加工中心进行先粗抛再精抛的过程,粗抛需要切削液冷却,而精抛需要抛光液辅助加工。现有加工中心(如山东威力重工机床有限公司)只能实现切削液循环,抛光液需人工不断喷洒,导致喷洒不均匀,不充分,费时费力,事倍功半。

经过检索以及参考切削液循环原理,发现现有的抛光液循环系统,大都是利用泵对储液桶内的抛光液进行循环,然后通过进液、回液管路进行流动,为降低抛光碎屑对抛光过程的影响,通常采用抛光液过滤器(如新乡市利菲尔特滤器股份有限公司的LFD系列)对循环使用的抛光液进行过滤,但是该过滤器是袋式过滤器,易堵塞。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术存在的不足,提供了一种抛光装置,具体技术方案如下:

一种抛光装置,包括抛光机头、圆柱状的铁台、套设在铁台外部的储液槽、储液桶、抛光液排出管、抛光液回液管,所述抛光机头的抛光端安装有抛光垫,所述储液槽的槽底设置有与铁台相匹配的安装孔,所述储液桶的上端设置有通孔一,所述抛光液排出管处安装有水泵一,所述抛光液回液管处安装有水泵二,所述抛光液排出管的首端对准储液槽的中央,所述抛光液回液管的尾端与储液槽的内部连通,所述抛光液回液管的首端和所述抛光液排出管的尾端均与储液桶的内部连通,所述铁台的顶部设置有柔性磁垫,所述抛光液回液管的尾端设置有过滤器,所述过滤器位于储液槽的槽底。

作为上述技术方案的改进,所述柔性磁垫包括圆形的磁垫,所述磁垫的中央嵌设有圆形的加强板,所述加强板的四周设置有环形缓冲区,所述环形缓冲区包括多个嵌入设在磁垫内部的扇状磁板、位于相邻两个扇状磁板之间的扇状弹性板,所述扇状磁板的中央设置有圆形通孔二;所述磁垫的边部设置有减厚区,所述减厚区的厚度小于或等于磁垫中央区域厚度的二分之一;所述磁垫位于环形缓冲区和减厚区之间还设置有多个弧形通孔三。

作为上述技术方案的改进,所述过滤器包括顶部为圆台形结构的槽壳、与抛光液回液管的尾端相连接的接头,所述槽壳的内部设置有过滤层,所述过滤层自上而下依次包括海绵层、钢丝球层、金属网层,所述过滤层的边部与槽壳固定连接,所述接头贯穿过滤层的中央且接头的下部设置有圆台形的挡块,所述接头的上部与槽壳的壳底螺纹连接,所述接头上部的中央设置有与抛光液回液管的内腔相连通的盲孔,所述接头的侧壁设置有多个与盲孔相连通的侧孔,所述侧孔均位于海绵层处;所述过滤层的下端设置有火山锥状的凹槽。

作为上述技术方案的改进,所述槽壳的顶部连接有螺管,所述螺管的上方设置有螺母,所述接头上部的外周设置有螺纹。

作为上述技术方案的改进,所述槽壳的槽口处设置有外翻边,所述外翻边的下方设置有压环,所述压环与外翻边之间通过螺栓连接。

本实用新型所述抛光装置可在现有加工中心外部可实现抛光液循环,可完成产品在加工中心的精抛光工艺,避免抛光液混入价格中心机床内部,且抛光完毕可拆除装置,进行其它产品正常加工,操作灵活,简便。所述所述抛光装置的安装、拆卸操作简单方便,实施效果好。

附图说明

图1为本实用新型所述抛光装置的结构示意图;

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