[实用新型]尾气管升降微调装置

说明书

本实用新型公开了尾气管升降微调装置，具体涉及升降微调装置领域，包括安装垫，所述安装垫的顶部固定有金属套，所述金属套的顶部放置有原子层沉积设备尾气管体；本装置设置有管道安装装置，在将原子层沉积设备尾气管体放置在对应的金属套后，通过加固套和转动套对原子层沉积设备尾气管体进行夹持固定，实现了原子层沉积设备尾气管体便于定位和安装的目的，实现了原子层沉积设备尾气管体和加固套之间定位装配较为方便的目的；本装置设置有升降微调机构，螺纹柱转动后可对安装板外侧的支撑高度进行调整，从而实现对原子层沉积设备尾气管体升降微调的目的，并便于让原子层沉积设备尾气管体的首尾位置对准。

技术领域

本实用新型涉及升降微调装置技术领域，具体为尾气管升降微调装置。

背景技术

原子层沉积制程是一种将物质以单原子的形式一层一层地镀在基材表面的技术，其中在制程中，是使反应的前驱物与基材或前一层膜的材料表面进行化学吸附，来生产既薄且均匀的薄膜。在原子层沉积制程中，均匀的沉积薄膜是晶体管微缩的重要基础；

中国专利公开了原子层沉积设备(授权公告号CN214088657U)，该专利技术包括腔体、加热台、载盘、中空部件、底部抽气口与喷头组件，其中载盘具有凸环，且位于加热台的顶表面并用以承载基材。加热台可受升降装置的驱动以在腔体中垂直位移，使得载盘的凸环围绕中空部件的至少一部份，并使抽气孔被凸环包围，而喷头组件、中空部件与载盘之间可形成小空间反应区，以使前驱物在小空间反应区对基材进行沉积，如此，可使制程流体的流场被稳定地调控，进而使原子层沉积制程中的基材可受前驱物均匀地沉积；

但是，上述的原子层沉积设备在使用过程中，原子层沉积设备的尾气管都是由一节节的标准管接头连接起来的，连接多段后因为误差的叠加管段的首尾位置不容易对准，同时对尾气管进行定位安装时操作较为繁琐；因此，本领域技术人员提供了尾气管升降微调装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供尾气管升降微调装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：尾气管升降微调装置，包括安装垫，所述安装垫的顶部固定有金属套，所述金属套的顶部放置有原子层沉积设备尾气管体，所述安装垫的顶部设置有管道安装装置，所述安装垫的底部安装有安装套，所述安装套的内部通过转轴转动连接有滚轮。

作为本实用新型再进一步的方案：所述管道安装装置包括安装板，所述安装板的内部开设有安装孔，所述安装板的顶部安装有加固套，所述加固套的外侧通过转轴转动连接有转动套，所述加固套的顶部固定有固定螺纹杆，所述固定螺纹杆的外侧螺纹连接有螺纹套，所述加固套的顶部设置有支撑装置，所述安装板的顶部设置有贯穿其底部的升降微调机构。

作为本实用新型再进一步的方案：所述安装板与所述安装垫之间固定连接，所述转动套的内部开设有通槽，且该通槽的尺寸与所述固定螺纹杆的尺寸适配。

作为本实用新型再进一步的方案：所述支撑装置包括外壳体，所述外壳体的内底壁设置有支撑弹簧，所述支撑弹簧的顶部连接有活动垫，所述活动垫的顶部固定有贯穿其底部的移动杆，所述外壳体的底部固定有限位套，所述移动杆的顶部安装有支撑块，所述限位套与所述加固套之间固定连接。

作为本实用新型再进一步的方案：所述升降微调机构包括金属螺母，所述金属螺母的顶部螺纹连接有延伸至底部的螺纹柱，所述螺纹柱的顶部固定有连接套，所述连接套的顶部设置有把手套，所述螺纹柱的底部转动连接有轴承套，所述轴承套的底部固定有支撑套。

作为本实用新型再进一步的方案：所述金属螺母和所述安装板之间固定连接，所述螺纹柱的尺寸与所述安装孔的尺寸适配。

与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果是：