[实用新型]一种等离子刻蚀装置有效
| 申请号: | 202320102051.X | 申请日: | 2023-02-02 |
| 公开(公告)号: | CN219144117U | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
| 发明(设计)人: | 杨彦章;于非非 | 申请(专利权)人: | 沈阳麦科诺科技有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司: | 济南鼎信专利商标代理事务所(普通合伙) 37245 | 代理人: | 沈丹萍 |
| 地址: | 110006 辽宁省沈*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 等离子 刻蚀 装置 | ||
本实用新型属于等离子刻蚀技术领域,尤其为一种等离子刻蚀装置,包括主体,所述主体的内部设置有可便捷拆卸更换的拖盘。通过旋转限位环使其上下移动可经顶环带动导杆旋转,调整相邻导杆之间的夹持范围,此时即可直接将物料搁置于上端,操作简单可有效防止搁置槽的固定防止引起反应物堆积的同时,物料搁置稳定还可经复位弹簧带动导杆施加夹持力防止松动;通过下压拖盘使其搁置于主体的内部并经定位销定位后,可带动弹性三角块卡合连接于定位槽的内部形成预限位,进而拨动压环使限位卡块卡合连接于主体的内部并经弹性折板形成顶紧力防止松动,操作简单可通过此结构便捷对拖盘进行拆卸更换操作,保障后续使用时的稳定性能。
技术领域
本实用新型属于等离子刻蚀技术领域,具体涉及一种等离子刻蚀装置。
背景技术
等离子刻蚀,一种采用等离子的干法蚀刻技术。通常使用较高压力及较小的射频功率,芯片表面层原子或分子与等离子气氛中的活性原子接触并发生反应,形成气态生成物而离开晶面造成蚀刻。
原有的刻蚀过程中发现以下不足:
1、目前的刻蚀机往往通过拖盘搁置物料进行刻蚀,然而此时的拖盘其搁置槽颞部容易在刻蚀过程中堆积反应物,此时再将物料搁置内部就会与反应物接触影响整体的刻蚀效果降低质量;
2、目前的拖盘在长久使用后其表面会残余部分反应物,难以直接进行清理,进而影响后续的刻蚀效果。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种等离子刻蚀装置,为解决现有技术中存在的上述问题,本实用新型提供了一种等离子刻蚀装置,具有可避免反应物堆积于一处以及可便捷更换拖盘的特点。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种等离子刻蚀装置,包括主体,所述主体的内部设置有可便捷拆卸更换的拖盘,所述拖盘的上端设置有支座,所述支座的上外侧位置设置有可便捷调整夹持范围的导杆,所述支座的上端还设置有用于带动导杆旋转的顶环,所述支座的外侧位置设置有用于将顶环的下端限位的环座,所述顶环的下端设置有用于旋合连接于环座外侧的限位环,所述限位环的上端设置有用于与顶环连接的连杆。
作为本实用新型的一种等离子刻蚀装置优选技术方案,所述拖盘的下端靠近外侧位置设置有可向外拨动的压环,所述拖盘的下端靠近外侧位置还设置有用于与主体内部凸出机构连接形成限位的定位销。
作为本实用新型的一种等离子刻蚀装置优选技术方案,所述压环的内侧设置有用于与主体内部凸出机构外侧位置连接的弹性三角块,所述主体内部凸出机构的外侧位置开设有用于弹性三角块卡合连接的定位槽。
作为本实用新型的一种等离子刻蚀装置优选技术方案,所述压环的外侧设置有用于与拖盘的外壁连接并对压环形成顶紧作用力的弹性折板,所述压环的内侧靠近下端位置设置有用于与主体连接增加稳定性能的限位卡块。
作为本实用新型的一种等离子刻蚀装置优选技术方案,所述导杆的下端设置有用于与支座转动连接的环套。
作为本实用新型的一种等离子刻蚀装置优选技术方案,所述环套的两端外侧设置有用于与支座的转轴连接并带动导杆自动复位形成夹紧力的复位弹簧。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
通过旋转限位环使其上下移动可经顶环带动导杆旋转,调整相邻导杆之间的夹持范围,此时即可直接将物料搁置于上端,操作简单可有效防止搁置槽的固定防止引起反应物堆积的同时,物料搁置稳定还可经复位弹簧带动导杆施加夹持力防止松动;
通过下压拖盘使其搁置于主体的内部并经定位销定位后,可带动弹性三角块卡合连接于定位槽的内部形成预限位,进而拨动压环使限位卡块卡合连接于主体的内部并经弹性折板形成顶紧力防止松动,操作简单可通过此结构便捷对拖盘进行拆卸更换操作,保障后续使用时的稳定性能。
附图说明
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