[发明专利]一种透明态氧化镍薄膜及其制备方法与电致变色器件

权利要求书

1.一种透明态氧化镍薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在通水及加热基板条件下，以直流电源反应溅射方法制备透明态氧化镍薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种透明态氧化镍薄膜的制备方法，其特征在于，制备条件为本底真空1×10^-5~5×10^-3Pa，基板温度为200~600℃，镀膜时间为20min~1h，工作气压为0.5~5Pa，溅射工作气氛为氧、氩混合气，氧气比例为5~90%，溅射功率密度为0.5~5.0W/cm²。

3.根据权利要求1或2所述的一种透明态氧化镍薄膜的制备方法，其特征在于，所述通水是在腔体中通过微漏阀通入一定量的去离子水，使得腔体内真空度从10^-5级变成10^-3或更低的真空度。

4.根据权利要求3所述的一种透明态氧化镍薄膜的制备方法，其特征在于，所述透明态氧化镍薄膜制备在透明导电薄膜上，透明导电薄膜是沉积在透明基板上的ITO、FTO或AZO。

5.根据权利要求1~4任一项所述的制备方法制备得到的透明态氧化镍薄膜，其特征在于，透明态氧化镍薄膜化学组成为NiO_xH_y（1≤x≤3，0≤y≤2）。

6.根据权利要求5所述的透明态氧化镍薄膜，其特征在于，透明态氧化镍薄膜中的镍是以镍的二价，三价的两种价态存在的NiO、Ni₂O₃、Ni(OH)₂、或NiOOH的任意组合、以任意比例构成的薄膜材料。

7.根据权利要求5或6所述的透明态氧化镍薄膜，其特征在于，透明态氧化镍薄膜为晶型或者无定型的精细薄膜结构，透明不导电材料。

8.根据权利要求7所述的透明态氧化镍薄膜，其特征在于，透明态氧化镍薄膜厚度为50~500nm。

9.一种包含权利要求5~8任一项所述的透明态氧化镍薄膜的电致变色器件。