[发明专利]一种集成式补锂设备在审

专利信息
申请号: 202310620232.6 申请日: 2023-05-29
公开(公告)号: CN116646625A 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 付博昂;李焱;孟瑞锋 申请(专利权)人: 纳科诺尔智能装备(深圳)有限公司
主分类号: H01M10/42 分类号: H01M10/42;H01M4/36;H01M4/139;H01M10/052
代理公司: 深圳市深可信专利代理有限公司 44599 代理人: 蒲定国
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 集成 式补锂 设备
【权利要求书】:

1.一种集成式补锂设备,其特征在于:包括机架及安装于所述机架上多个气胀轴组件,多个气胀轴组件分别用于排斥膜、锂带、极片以及转移膜的收卷和放卷;

所述机架上还安装有四辊压延机构和两辊覆合机构,所述四辊压延机构包括支撑辊、压延小辊、压延定辊和覆合大辊,所述压延小辊与压延定辊之间、压延定辊与覆合大辊之间均具有一挤压力;所述两辊覆合机构包括覆合动辊和覆合定辊,所述覆合动辊和覆合定辊之间也具有一挤压力;

其中,多个气胀轴组件中的几个气胀轴组件形成第一气胀轴组件组,第一气胀轴组件组与四辊压延机构用于实现补锂路线一;多个气胀轴组件中的几个气胀轴组件形成第二气胀轴组件组,第二气胀轴组件组与四辊压延机构以及两辊覆合机构用于实现补锂路线二;第一气胀轴组件组与第二气胀轴组件组共用至少一个气胀轴组件。

2.根据权利要求1所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述机架上还安装有过辊机构,所述过辊机构用于排斥膜、极片、锂带及转移膜走带时的支撑传输。

3.根据权利要求1所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述机架上还安装有摆辊机构,所述摆辊机构用于排斥膜、极片、锂带及转移膜走带时的张力调节。

4.根据权利要求1所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述机架上还安装有纠偏机构,所述纠偏机构用于调节转移膜的位置使粘贴在转移膜上的锂带进入两辊覆合机构时位于极片的中部区域。

5.根据权利要求1所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述机架上还安装有涂油机构,所述涂油机构提供防粘剂并将防粘剂涂抹于排斥膜靠近锂带的一侧以及涂抹于锂带背离排斥膜的一侧。

6.根据权利要求1-5任一所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述四辊压延机构中压延小辊与覆合大辊均通过一水平推动组件驱动其运动,所述压延小辊朝压延定辊方向移动时对二者辊缝之间的物体施加挤压力,所述覆合大辊朝压延定辊方向移动时对二者辊缝之间的物体施加挤压力。

7.根据权利要求6所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述四辊压延机构还包括压延间隙调节组件和覆合间隙调节组件,所述压延间隙调节组件用于调节压延小辊与压延定辊之间的间隙,所述覆合间隙调节组件用于调节覆合大辊与压延定辊之间的间隙。

8.根据权利要求7所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述压延间隙调节组件和覆合间隙调节组件均包括一固定支撑元件及一调节元件,所述固定支撑元件包括滑动支架及安装于滑动支架上的楔块固定板,所述调节元件包括第二伺服电机、第二减速机、精密滚珠丝杠、移动楔块、滚柱滚动块、固定楔块,所述固定楔块安装在楔块固定板上,滚珠滚动块安装于移动楔块上,所述第二伺服电机通过减速机和精密滚珠丝杠带动所述移动楔块上下移动,所述移动楔块上下移动时带动所述固定锲块左右移动。

9.根据权利要求8所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述四辊压延机构还包括辊面控温系统,所述辊面控温系统包括旋转接头、导油管以及模温机,所述旋转接头连接于所述压延小辊、压延定辊及覆合大辊背离调节元件的一端,所述旋转接头通过一联轴器与驱动压延小辊、压延定辊及覆合大辊转动的伺服电机连接,所述旋转接头通过导油管与模温机连接,所述压延小辊、压延定辊及覆合大辊内部设置有流道,所述流道与旋转接头连通。

10.根据权利要求9所述的一种集成式补锂设备,其特征在于:所述旋转接头上设置有进油口和出油口,所述进油口和出油口分别通过一所述导油管与模温机连接,所述旋转接头上设置有与所述进油口连通的中间管道,所述中间管道延伸至所述流道中,所述中间管道与流道侧壁之间具有缝隙形成回流通道,所述旋转接头上设置有与所述出油口及回流通道连通的夹层缝隙。

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