[发明专利]量测方法和相关装置在审
申请号: | 202310533702.5 | 申请日: | 2019-03-07 |
公开(公告)号: | CN116559495A | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
发明(设计)人: | T·J·胡伊斯曼;R·C·玛斯;H·A·迪伦 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G01Q30/02 | 分类号: | G01Q30/02;G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郭星 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 方法 相关 装置 | ||
1.一种确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法,所述方法包括:
通过应用一维低通滤波器于检查图像来从所述检查图像确定参考信号;以及
基于经匹配的边缘轮廓和所述检查图像的阈值特性来确定边缘位置,所述经匹配的边缘轮廓包括基于所述参考信号的所述边缘位置的经匹配的估计。
2.根据权利要求1所述的方法,还包括生成包括所述参考信号的经滤波的图像。
3.根据权利要求2所述的方法,还包括估计初始轮廓使得所述初始轮廓包括正被确定的所述边缘的初始估计。
4.根据权利要求3所述的方法,还包括:在应用所述一维低通滤波器之前,变换所述边缘的所述检查图像的至少一部分,以在包括与所述初始轮廓基本上平行的第一维度的变换空间中获取经变换的图像。
5.根据权利要求4所述的方法,还包括:将所述经滤波的图像和所述经变换的图像中的一者与所述经滤波的图像和所述经变换的图像中的另一者匹配以确定所述经匹配的边缘轮廓。
6.根据权利要求5所述的方法,其中匹配包括:在逐列的基础上将所述经滤波的图像与所述经变换的图像匹配,并且其中每一列由所述检查图像的像素的宽度限定。
7.根据权利要求6所述的方法,其中匹配还包括:所述经滤波的图像的列与所述经变换的图像的对应列的互相关。
8.根据权利要求1所述的方法,还包括:确定与所述经匹配的边缘轮廓相关联的经匹配的参考信号的每一列的所述阈值特性,所述阈值特性包括阈值灰度值。
9.根据权利要求8所述的方法,其中所述阈值特性包括缩放针对所述经匹配的参考信号的每一列的最小灰度值和最大灰度值。
10.根据权利要求5所述的方法,还包括:通过使用所述经匹配的边缘轮廓作为针对每个附加迭代的初始轮廓执行至少一个附加迭代来迭代匹配所述经滤波的图像和所述经变换的图像。
11.根据权利要求1所述的方法,其中获取所述图像用于与所述特征有关的参数的测量,从而监测用于形成所述特征的光刻过程的性能。
12.根据权利要求11所述的方法,其中所述参数包括以下中的一项:临界尺寸、线边缘粗糙度、线宽粗糙度、局部临界尺寸均匀性或边缘放置误差。
13.一种装置,包括:
存储器,存储一组指令;以及
一个或多个处理器,被配置为执行所述一组指令以使所述装置执行:
通过在与初始轮廓平行的方向上应用一维低通滤波器于检查图像来从所述图像确定参考信号;以及
基于经匹配的边缘轮廓和所述检查图像的阈值特性来确定边缘位置,所述经匹配的边缘轮廓包括基于所述参考信号的所述边缘位置的经匹配的估计。
14.根据权利要求13所述的装置,所述一个或多个处理器被配置为执行所述一组指令以使所述装置还执行:生成包括所述参考信号的经滤波的图像。
15.根据权利要求14所述的装置,所述一个或多个处理器被配置为执行所述一组指令以使所述装置还执行:
估计所述初始轮廓使得所述初始轮廓包括正被确定的边缘的初始估计;以及
在应用所述一维低通滤波器之前,变换包括特征的所述检查图像的至少一部分,以在包括与所述初始轮廓基本上平行的第一维度的变换空间中获取经变换的图像。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310533702.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种直线型激振器
- 下一篇:一种基于深度学习的热阻测量方法