[发明专利]清洁设备的控制方法、清洁设备及存储介质

权利要求书

1.一种清洁设备的控制方法，其特征在于，所述清洁设备包括清洁件、回收管道以及第一动力组件，所述第一动力组件在所述回收管道内部形成负压，以使所述回收管道收集所述清洁件处的脏污，所述回收管道内部和/或所述清洁件处设有脏污传感器；所述方法包括：

在所述清洁设备清洁待清洁表面时，通过所述脏污传感器获取所述脏污传感器处的脏污值；

当所述脏污值大于或等于预设的脏污阈值时，控制所述清洁设备以升频状态运行至少预设时长，所述清洁设备在所述升频状态下的至少一种运行参数大于在非升频状态下的所述运行参数；

当所述预设时长内所述脏污值大于或等于所述脏污阈值的时长大于或等于时长阈值时，判定所述清洁设备需要进行自清洁处理。

2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述脏污阈值包括第一脏污阈值和第二脏污阈值，所述第二脏污阈值大于所述第一脏污阈值；所述当所述预设时长内所述脏污值大于或等于所述脏污阈值的时长大于或等于时长阈值时，判定所述清洁设备需要进行自清洁处理，包括：

当所述预设时长内所述脏污值大于或等于所述第一脏污阈值且小于所述第二脏污阈值的时长大于或等于第一时长阈值时，判定所述清洁设备需要进行自清洁处理；和/或

当所述预设时长内所述脏污值大于或等于所述第二脏污阈值的时长大于或等于第二时长阈值时，判定所述清洁设备需要进行自清洁处理；所述第二时长阈值小于所述第一时长阈值。

3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，所述当所述预设时长内所述脏污值大于或等于所述第二脏污阈值的时长大于或等于第二时长阈值时，判定所述清洁设备需要进行自清洁处理，包括：

当所述预设时长中至少第一时段内确定的所述脏污值均大于或等于所述第二脏污阈值时，判定所述清洁设备需要进行自清洁处理，所述第一时段的时长大于或等于所述第二时长阈值；和/或，

当所述预设时长内确定的脏污值大于或等于所述第二脏污阈值的次数大于或等于预设的次数阈值，和/或所述预设时长内确定的脏污值大于或等于第二脏污阈值的累计时长大于或等于第二时长预设值时，判定所述清洁设备需要进行自清洁处理。

4.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，所述方法还包括：

当所述预设时长内所述脏污值小于所述第一脏污阈值的时长大于或等于第三时长阈值时，控制所述清洁设备退出所述升频状态，所述第三时长阈值大于或等于所述预设时长与所述第一时长阈值的差值。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的控制方法，其特征在于，所述升频状态包括第一升频状态和第二升频状态，所述清洁设备在所述第二升频状态下的至少一种运行参数大于在所述第一升频状态下的所述运行参数；

所述当所述脏污值大于或等于预设的脏污阈值时，控制所述清洁设备以升频状态运行至少预设时长，包括：

当所述脏污值大于或等于第一脏污阈值且小于第二脏污阈值时，控制所述清洁设备以所述第一升频状态运行至少预设时长；

当所述脏污值大于或等于所述第二脏污阈值时，控制所述清洁设备以所述第二升频状态运行至少预设时长。