[发明专利]刻蚀装置

权利要求书

1.一种刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置包括：反应腔(10)、外延托盘(20)、注液管路(30)和旋转组件；

所述外延托盘(20)位于所述反应腔(10)内，所述注液管路(30)的出口端位于所述反应腔(10)内，且所述出口端与所述外延托盘(20)相对，所述注液管路(30)用于注入刻蚀溶液；

所述旋转组件位于所述反应腔(10)内，且与所述外延托盘(20)相连，用于驱动所述外延托盘(20)转动。

2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述注液管路(30)包括至少两个分流管道(31)，所述至少两个分流管道(31)的一端插设在所述反应腔(10)上且延伸至所述反应腔(10)内，所述至少两个分流管道(31)沿所述外延托盘(20)的径向间隔排布。

3.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述旋转组件包括：锁止件(41)、底盘(42)和驱动件(43)，所述外延托盘(20)位于所述底盘(42)上，所述锁止件(41)可拆卸地连接所述外延托盘(20)和所述底盘(42)，所述驱动件(43)与所述底盘(42)相连，所述驱动件(43)用于驱动所述底盘(42)转动。

4.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述锁止件(41)包括压环，所述压环的内壁面具有环形槽(411)，所述外延托盘(20)和所述底盘(42)位于所述压环的内孔中，且所述外延托盘(20)的边缘区域和所述底盘(42)的边缘区域均插设在所述环形槽(411)内。

5.根据权利要求1至4任一项所述的刻蚀装置，其特征在于，所述外延托盘(20)具有多个用于安装晶圆的凹槽(21)；

所述刻蚀装置还包括定位组件，所述定位组件位于所述凹槽(21)内，用于压紧所述晶圆的侧壁。

6.根据权利要求5所述的刻蚀装置，其特征在于，所述定位组件包括：垫板(61)和弹性件(62)，所述弹性件(62)的一端与所述垫板(61)相连，所述弹性件(62)的另一端与所述凹槽(21)的槽壁相抵，所述垫板(61)远离所述弹性件(62)的侧面与所述晶圆相抵。

7.根据权利要求1至4任一项所述的刻蚀装置，其特征在于，所述反应腔(10)的内壁面设有防腐层(11)。

8.根据权利要求7所述的刻蚀装置，其特征在于，所述防腐层(11)包括铱合金层。

9.根据权利要求1至4任一项所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括辅助管路(53)，所述辅助管路(53)插装在所述反应腔(10)的侧壁上，且所述辅助管路(53)的一端位于所述反应腔(10)内，所述辅助管路(53)用于注入冷却介质。

10.根据权利要求1至4任一项所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括排液管路(54)，所述排液管路(54)插装在所述反应腔(10)的底部，且一端与所述反应腔(10)连通。