[发明专利]抛光台、抛光设备和抛光方法

权利要求书

1.一种抛光台，其特征在于，所述抛光台包括用于供给多种抛光液的多个供液通道和被所述多个供液通道分割而形成的多个抛光区，

其中，所述抛光区与所述供液通道沿所述抛光台的径向方向交替地布置，以在抛光时借助于所述抛光台旋转产生的离心力使所述多种抛光液分布在所述多个抛光区上，从而在不同的抛光区提供不同的抛光去除量。

2.根据权利要求1所述的抛光台，其特征在于，所述多个供液通道呈与所述抛光台同心并且彼此独立的多个环形形状，并且所述多个供液通道提供的所述多种抛光液沿所述径向方向向外，在所述多个抛光区上提供的抛光去除量逐渐减小。

3.根据权利要求1所述的抛光台，其特征在于，每个供液通道经由至少部分地设置在所述抛光台内部的对应的供给管路提供对应的抛光液。

4.根据权利要求1所述的抛光台，其特征在于，所述多种抛光液具有不同的浓度和/或温度。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的抛光台，其特征在于，沿每个供液通道分布有多个出液口。

6.根据权利要求5所述的抛光台，其特征在于，所述供液通道由多孔陶瓷材料制成。

7.根据权利要求1至4中的任一项所述的抛光台，其特征在于，所述抛光台还包括振动器，所述振动器设置成使所述抛光台产生振动，以有助于调整所述抛光液的分布。

8.根据权利要求1至4中的任一项所述的抛光台，其特征在于，所述抛光台还包括用于驱动所述抛光台旋转的驱动轴，以及用于调节所述驱动轴的旋转速度的变速器，以控制所述抛光台的旋转速度。

9.一种抛光设备，其特征在于，所述抛光设备包括：

根据权利要求1至8中的任一项所述的抛光台；

抛光头，所述抛光头用于保持待抛光的硅片；以及

与所述抛光台上的多个抛光区相对应的多个抛光垫，每个抛光垫固定地设置在对应的抛光区上，

其中，所述抛光垫设置在所述抛光区的上表面上，以用于通过由所述抛光台的供液通道提供至所述抛光垫的抛光液，对通过所述抛光头而与所述抛光垫接触的所述硅片进行抛光。

10.一种抛光方法，其特征在于，所述抛光方法通过使用根据权利要求9所述的抛光设备执行。