[发明专利]一种蚀刻液及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种蚀刻液，其特征在于，按质量百分数计，所述蚀刻液包括2.00wt％-15.00wt％的过氧酸、2.00wt％-15.00wt％的有机酸A以及2.00wt％-25.00wt％的有机酸B，余量为水；

其中，所述有机酸A包括甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、辛酸、己二酸、乙二酸、丙二酸、苯甲酸、苯乙酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、戊酸、己酸以及癸酸中的至少一种；

所述有机酸B包括甲基磺酸、苹果酸、柠檬酸、马来酸以及酒石酸中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液还包括10.00wt％-30.00wt％的无机盐。

3.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液还包括0.01wt％-1.00wt％的金属形貌改善剂。

4.根据权利要求3所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液包括7.00-12.00wt％的所述过氧酸、10.00wt％-15.00wt％的所述有机酸A、5.00wt％-25.00wt％的所述有机酸B、15.00wt％-25.00wt％的所述无机盐以及0.30wt％-1.00wt％的所述金属形貌改善剂，余量为水；

优选地，所述蚀刻液包括10.00wt％的所述过氧酸、15.00wt％的所述有机酸A、15.00wt％的所述有机酸B、25.00wt％的所述无机盐以及1.00wt％的所述金属形貌改善剂，余量为水。

5.根据权利要求1-4任一项所述的蚀刻液，其特征在于，所述过氧酸包括过一硫酸、过二硫酸以及过乙酸中的至少一种。

6.根据权利要求2-4任一项所述的蚀刻液，其特征在于，所述无机盐包括硫酸钠、硫酸钾、硫酸钙、硫酸铁、硫酸亚铁、氯化钠、氯化钙、氯化钾、硫酸氢钠、硝酸钾、硝酸铵、硝酸钠、硝酸银、硝酸钙、磷酸二氢钠以及硫酸铵中的至少一种。

7.根据权利要求3或4所述的蚀刻液，其特征在于，所述金属形貌改善剂包括硝酸铁、硝酸亚铁、硫酸铁以及硫酸亚铁中的至少一种。

8.如权利要求1-7任一项所述的蚀刻液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：按配比混合各原料。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，先将无机盐、金属形貌改善剂与水第一次混合，随后与过氧酸第二次混合，再与有机酸A及有机酸B第三次混合。

10.如权利要求1-7任一项所述的蚀刻液的应用，其特征在于，所述蚀刻液用于对Ag与ITO膜构成的多层膜进行刻蚀；

优选地，所述多层膜为ITO/Ag/ITO复合膜。