[发明专利]光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法

说明书

本发明涉及一种光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法。其中，所述制备方法包括以下步骤：S1、采用TiOsubgt;2/subgt;层和SiOsubgt;2/subgt;层的多层叠加模式，在真空靶材室内进行真空溅射镀膜，制备出具有单一颜色的第一薄膜；S2、冷却出炉，将所述第一薄膜放置在镀膜冶具上，调整第一薄膜与所述镀膜冶具的遮挡距离；S3、在所述第一薄膜上沉积TiOsubgt;2/subgt;和SiOsubgt;2/subgt;层，直至出现第二种颜色，得到光学炫彩渐变色薄膜。其中，在S1中沉积的最后一层涂层和S3中沉积的第一层涂层相同。本发明提供的一种光学炫彩渐变色薄膜既具有良好的渐变美观效果，同时又获得了高耐磨性，能够广泛应用于多种产品的外观装饰件上。

技术领域

本发明涉及磁控溅射技术领域，特别涉及一种光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法。

背景技术

光学薄膜的制备技术是把薄膜材料按一定的技术途径和特定的要求沉积为薄膜。随着近代信息光学，光电子技术和光子技术的发展，对光学薄膜的长寿命、高可靠性及高强度的要求越来越高，从而发展出一系列新型光学薄膜及其制备技术。这些技术用于光学薄膜的制备，不仅大大拓宽了光学薄膜可利用的材料范围，而且极大地改进了光学薄膜的性能和功能。光学薄膜可以采用物理气相沉积(PVD)，化学气相沉积(CVD)和化学液相沉积(CLD)三种技术制备，物理气相沉积(PVD)制备光学薄膜这一技术目前已被广泛采用。其中，PVD镀膜技术主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。

光学薄膜因其多样的外观颜色可用于装饰镀膜行业，现有的装饰镀膜一般采用真空蒸发的镀膜。然而，传统真空蒸发镀膜制备的光学薄膜由于耐磨性能差，难以用在外观装饰件上，且现有的单一颜色的光学薄膜不能满足用户需求。

因此，现有技术需要进行改进。

发明内容

现有技术中，传统真空蒸发镀膜制备的光学薄膜由于耐磨性能差，难以用在外观装饰件上，且现有的单一颜色的光学薄膜不能满足用户需求，因此，本发明提供一种光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法用于解决上述问题。

为实现上述目的，第一方面，本发明提供了一种光学炫彩渐变色薄膜的制备方法，其包括以下步骤：

S1、采用TiO₂层和SiO₂层的多层叠加模式，在真空靶材室内进行真空溅射镀膜，制备出具有单一颜色的第一薄膜；

S2、冷却出炉，将所述第一薄膜放置在镀膜冶具上，调整第一薄膜与所述镀膜冶具的遮挡距离；

S3、在所述第一薄膜上沉积TiO₂和SiO₂层，直至出现第二种颜色，得到光学炫彩渐变色薄膜。

在一种实现方式中，在S1中，所述真空靶材室内配置一对Ti靶和一对Si靶，所述Ti靶和所述Si靶设置在所述真空靶材室内的相对两端。

在一种实现方式中，在S1中，具体包括以下步骤：

S11、充入工作气体Ar，使真空靶材室气压达到0.2~0.3Pa，偏压设定-100V，开启Ti靶，Ti靶电流为28~34A，沉积纯Ti层，沉积时间为5~10分钟；

S12、关闭偏压电源，向靶材室内充入工作气体Ar和反应气体O₂，调整气压为0.3~0.4Pa，Ti靶电流为28~34A，沉积TiO₂层，沉积时间为30~40分钟；

S13、关闭Ti靶，继续向靶材室内充入工作气体Ar和反应气体O₂，调整气压为0.3~0.4Pa，开启Si靶，Si靶电流为18~25A，沉积SiO₂层，沉积时间为12~21分钟；

S14、重复S12和S13继续沉积两次TiO₂层和SiO₂层；