[发明专利]光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法在审
申请号: | 202310374496.8 | 申请日: | 2023-04-10 |
公开(公告)号: | CN116288155A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 赵明华;汪达文;沈妙杰;汪经纬 | 申请(专利权)人: | 深圳森丰真空镀膜有限公司 |
主分类号: | C23C14/10 | 分类号: | C23C14/10;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/14;G02B1/10;G02B1/14 |
代理公司: | 深圳汉林汇融知识产权代理事务所(普通合伙) 44850 | 代理人: | 刘临利 |
地址: | 518000 广东省深圳市光明*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 渐变 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:
S1、采用TiO2层和SiO2层的多层叠加模式,在真空靶材室内进行真空溅射镀膜,制备出具有单一颜色的第一薄膜;
S2、冷却出炉,将所述第一薄膜放置在镀膜冶具上,调整第一薄膜与所述镀膜冶具的遮挡距离;
S3、在所述第一薄膜上沉积TiO2和SiO2层,直至出现第二种颜色,得到光学炫彩渐变色薄膜。
2.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1中,所述真空靶材室内配置一对Ti靶和一对Si靶,所述Ti靶和所述Si靶设置在所述真空靶材室内的相对两端。
3.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1中,具体包括以下步骤:
S11、充入工作气体Ar,使真空靶材室气压达到0.2~0.3Pa,偏压设定-100V,开启Ti靶,Ti靶电流为28~34A,沉积纯Ti层,沉积时间为5~10分钟;
S12、关闭偏压电源,向靶材室内充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层,沉积时间为30~40分钟;
S13、关闭Ti靶,继续向靶材室内充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,开启Si靶,Si靶电流为18~25A,沉积SiO2层,沉积时间为12~21分钟;
S14、重复S12和S13继续沉积两次TiO2层和SiO2层;
S15、充入反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层,沉积时间为18~25分钟,关靶,得到具有单一颜色的第一镀膜。
4.根据权利要求3所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S11中,沉积纯Ti层时的Ti靶电流为30A,沉积时间为8分钟;在S12中,沉积TiO2层时的Ti靶电流为30A,沉积时间为34分钟;在S13中,沉积SiO2层时的Si靶电流为20A,沉积时间为15分钟;在S15中,沉积TiO2层时的Ti靶电流为20A,沉积时间为22分钟。
5.根据权利要求3所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1中,充入110~130sccm的工作气体Ar和/或70~90sccm的反应气体O2。
6.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1前还包括:在镀膜室加热抽真空,温度保持在150℃,当所述镀膜室内真空达到0.001Pa,通入Ar,使气压达到-1pa,偏压-100V,对基底材料进行离子清洗。
7.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S3中,具体包括:
S31、充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层8~15分钟;
S32、关闭Ti靶,继续充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.33~0.4Pa,同时开启Si靶,调整Si靶电流为18~25A,沉积SiO2层,沉积时间为12~21分钟;
S33、关闭Si靶,继续充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层,沉积时间为12~18分钟,关靶,冷却出炉,得到光学炫彩渐变色薄膜。
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