[发明专利]光学炫彩渐变色薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310374496.8 申请日: 2023-04-10
公开(公告)号: CN116288155A 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 赵明华;汪达文;沈妙杰;汪经纬 申请(专利权)人: 深圳森丰真空镀膜有限公司
主分类号: C23C14/10 分类号: C23C14/10;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/14;G02B1/10;G02B1/14
代理公司: 深圳汉林汇融知识产权代理事务所(普通合伙) 44850 代理人: 刘临利
地址: 518000 广东省深圳市光明*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 渐变 薄膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:

S1、采用TiO2层和SiO2层的多层叠加模式,在真空靶材室内进行真空溅射镀膜,制备出具有单一颜色的第一薄膜;

S2、冷却出炉,将所述第一薄膜放置在镀膜冶具上,调整第一薄膜与所述镀膜冶具的遮挡距离;

S3、在所述第一薄膜上沉积TiO2和SiO2层,直至出现第二种颜色,得到光学炫彩渐变色薄膜。

2.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1中,所述真空靶材室内配置一对Ti靶和一对Si靶,所述Ti靶和所述Si靶设置在所述真空靶材室内的相对两端。

3.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1中,具体包括以下步骤:

S11、充入工作气体Ar,使真空靶材室气压达到0.2~0.3Pa,偏压设定-100V,开启Ti靶,Ti靶电流为28~34A,沉积纯Ti层,沉积时间为5~10分钟;

S12、关闭偏压电源,向靶材室内充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层,沉积时间为30~40分钟;

S13、关闭Ti靶,继续向靶材室内充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,开启Si靶,Si靶电流为18~25A,沉积SiO2层,沉积时间为12~21分钟;

S14、重复S12和S13继续沉积两次TiO2层和SiO2层;

S15、充入反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层,沉积时间为18~25分钟,关靶,得到具有单一颜色的第一镀膜。

4.根据权利要求3所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S11中,沉积纯Ti层时的Ti靶电流为30A,沉积时间为8分钟;在S12中,沉积TiO2层时的Ti靶电流为30A,沉积时间为34分钟;在S13中,沉积SiO2层时的Si靶电流为20A,沉积时间为15分钟;在S15中,沉积TiO2层时的Ti靶电流为20A,沉积时间为22分钟。

5.根据权利要求3所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1中,充入110~130sccm的工作气体Ar和/或70~90sccm的反应气体O2

6.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S1前还包括:在镀膜室加热抽真空,温度保持在150℃,当所述镀膜室内真空达到0.001Pa,通入Ar,使气压达到-1pa,偏压-100V,对基底材料进行离子清洗。

7.根据权利要求1所述的光学炫彩渐变色薄膜的制备方法,其特征在于,在S3中,具体包括:

S31、充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层8~15分钟;

S32、关闭Ti靶,继续充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.33~0.4Pa,同时开启Si靶,调整Si靶电流为18~25A,沉积SiO2层,沉积时间为12~21分钟;

S33、关闭Si靶,继续充入工作气体Ar和反应气体O2,调整气压为0.3~0.4Pa,Ti靶电流为28~34A,沉积TiO2层,沉积时间为12~18分钟,关靶,冷却出炉,得到光学炫彩渐变色薄膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳森丰真空镀膜有限公司,未经深圳森丰真空镀膜有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310374496.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top