[发明专利]一种减少杂质含量的石墨片制备工艺

权利要求书

1.一种减少杂质含量的石墨片制备工艺，其特征在于，包括如下步骤；

步骤一：制备基底层，通过裁切设备裁切基底层；

步骤二：去除石墨粉中的杂质，将炭原料经过煅烧、破碎与筛分制得石墨粉，然后将石墨粉和水倒入反应釜内，使得石墨粉形成浆状结构，然后向反应釜内加入酸，对反应釜进行加热，从而将石墨粉中的金属杂质融入到酸液中，将反应釜中反应完的石墨粉通入到复选池中，在复选池中对石墨粉进行搅拌，使得石墨粉中的沙石沉入到复选池中的底部，减少上层石墨粉中的沙石含量；

步骤三：制备石墨片，将复选池中上层的石墨粉通入混合设备内，然后向石墨粉内加入碳酸锂颗粒和聚偏氟乙烯，可以增强泡沫石墨片的强度和韧性，接着将混合后的石墨粉通入压干机中进行压干，将压干机中的石墨粉放入到烘干机中，对石墨粉进行近一步的烘干，将烘干后的片状结构送入低温升温炉进行碳化处理，然后再将碳化处理后的有机聚合物薄片送入高温升温炉中，进行石墨化处理；

步骤四：对导热硅胶进行处理，将导热硅胶与经过步骤二处理的石墨粉混合，然后在步骤三中制得的石墨片上涂覆混合后的导热硅胶；

步骤五：处理保护膜，然后覆盖保护膜；

步骤六：将基底层、石墨片、导热硅胶和保护膜叠合。

2.根据权利要求1所述的一种减少杂质含量的石墨片制备工艺，其特征在于：所述步骤二中的炭原料可以是石油焦、沥青焦、无烟煤、冶金焦和炭黑等，收集步骤二中的废液，然后通过净化设备处理废液，提取出废液中的金属。

3.根据权利要求1所述的一种减少杂质含量的石墨片制备工艺，其特征在于：所述步骤三中石墨片的石墨化处理是把焙烧后的制品加热到3000-3 200℃，保持15-50小时，碳原子晶格有序排列，完成由炭向石墨的转变，灰分降到百分之0.07以下，硼的含量降低至0.5PPm，然后将片状结构通过卤素气体净化法处理，去除难熔金属。

4.根据权利要求1所述的一种减少杂质含量的石墨片制备工艺，其特征在于：所述步骤五中的通过剪切设备处理保护膜，然后通过钻孔装置在保护膜中钻孔，使得保护膜的内端均匀布有微孔，保护膜包在石墨片的外端。