[发明专利]光谱仪标定方法、装置、电子设备和存储介质有效
| 申请号: | 202310301354.9 | 申请日: | 2023-03-24 |
| 公开(公告)号: | CN116007754B | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
| 发明(设计)人: | 张炜 | 申请(专利权)人: | 加维纳米(北京)科技有限公司 |
| 主分类号: | G01J3/28 | 分类号: | G01J3/28;G06F18/214 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 苏蕾 |
| 地址: | 100085 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光谱仪 标定 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种光谱仪标定方法,其特征在于,所述方法包括:
获取入射光谱数据;
基于拟合模型,确定所述入射光谱数据的至少一个光谱响应状态以及各所述光谱响应状态对应的光谱能量数据;
对各所述光谱响应状态对应的光谱能量数据进行信号处理,得到各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据;
根据各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据确定目标光谱响应状态,根据所述目标光谱响应状态对所述光谱仪进行标定;
所述对各所述光谱响应状态对应的光谱能量数据进行信号处理,得到各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据,包括:
基于包含光谱响应状态传递特性的非凸非光滑函数,对各所述光谱响应状态对应的光谱能量数据进行信号处理,得到各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据;各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据是去除噪声后的入射光谱数据,其中,f表示所述光谱能量数据,sp表示重建后的光谱,是正则化参数,和是所述非凸非光滑函数中的控制变量,是一阶梯度算子,是拉普拉斯算子,表示光谱峰值,表示高斯卷积核,表示高斯卷积核的方差;
所述根据各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据确定目标光谱响应状态,包括:
将各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据与所述入射光谱数据的基准光谱数据进行比对,得到各所述光谱响应状态对应的重建光谱数据的重建误差;
根据所述光谱响应状态对应的重建光谱数据的重建误差,确定具有最小重建误差的目标光谱响应状态。
2.根据权利要求1所述的光谱仪标定方法,其特征在于,所述基于拟合模型,确定所述入射光谱数据的至少一个光谱响应状态以及各所述光谱响应状态对应的光谱能量数据之前,所述方法还包括:
获取样本数据,所述样本数据包括样本入射光谱数据、基准光谱能量数据、基准光谱响应状态数据;
将所述样本入射光谱数据输入至初始拟合模型进行拟合,得到训练光谱能量数据和训练光谱响应状态数据;
将所述训练光谱能量数据进行信号处理,得到重建后的光谱数据;
根据所述重建后的光谱数据、基准入射光谱数据、所述训练光谱能量数据、所述基准光谱能量数据、所述训练光谱响应状态数据、所述基准光谱响应状态数据,得到所述初始拟合模型的生成损失;
根据所述生成损失,对所述初始拟合模型的模型参数进行调整,直至所述初始拟合模型满足预设收敛条件时,得到拟合模型。
3.如权利要求2所述的光谱仪标定方法,其特征在于,所述根据所述重建后的光谱数据、基准入射光谱数据、所述训练光谱能量数据、所述基准光谱能量数据、所述训练光谱响应状态数据、所述基准光谱响应状态数据,得到所述初始拟合模型的生成损失,包括:
根据所述训练光谱能量数据、所述基准光谱能量数据、第一鉴别器,得到第一鉴别结果;
根据所述训练光谱响应状态数据、所述基准光谱响应状态数据和第二鉴别器,得到第二鉴别结果;
根据所述重建后的光谱数据、基准入射光谱数据、第一鉴别结果和第二鉴别结果以及预设的损失函数,得到生成损失。
4.如权利要求3所述的光谱仪标定方法,其特征在于,所述根据所述训练光谱能量数据、所述基准光谱能量数据、第一鉴别器,得到第一鉴别结果,包括:
分别将所述训练光谱能量数据、所述基准光谱能量数据输入至第一鉴别器,得到所述训练光谱能量数据的训练光谱特征以及所述基准光谱能量数据的基准光谱特征;
根据所述训练光谱特征、所述基准光谱特征之间的相似程度,得到第一鉴别结果。
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