[发明专利]一种Micro OLED微腔结构及其制备方法及OLED器件

说明书

本发明公开了一种Micro OLED微腔结构及其制备方法，包括以下步骤：在CMOS基板上制备像素定义层；然后制备出不同厚度的R反射阳极、G反射阳极、B反射阳极；在反射阳极及像素定义层之上打印一层透明导电胶并固化形成透明导电层；将透明导电层整体减薄至像素定义层之上的透明导电层消失，分别在R反射阳极、G反射阳极、B反射阳极之上形成了不同厚度的透明导电层；在透明导电层之上制备一层透明阳极，即分别在R反射阳极、G反射阳极、B反射阳极之上的透明导电层之上形成了R透明阳极、G透明阳极、B透明阳极；所述方法可实现对于不同颜色的微腔长度的单独调节，且不同颜色的透明阳极高度一致，方便后续制程进行。

技术领域

本发明属于OLED显示技术领域，具体涉及一种Micro OLED微腔结构及其制备方法及OLED器件。

背景技术

在OLED产品中，通常会利用微腔共振效应来增强显示面板的出光，其中微腔长度为反射阳极与阴极之间的长度。在OLED全彩产品中，一般都是通过RGB三种颜色来合成彩色的效果，但由于不同颜色的波长不同，其对应的OLED器件所需的微腔长度也会有所不同。在大尺寸全彩OLED器件中，蒸镀不同颜色发光器件的材料可以用不同的FMM(Fine metalmask)，这样就可以单独调试不同颜色的器件结构来调节微腔。而在Micro OLED行业，由于像素尺寸较小，不适用FMM技术，发光材料是通过Open mask整面蒸镀，形成白光器件，再通过彩膜滤光来达到彩色化的效果。

由于是整面蒸镀，RGB对应像素的蒸镀膜层厚度一致，不能单独调节不同颜色的微腔，因此目前行业内一般是通过调节RGB像素对应的透明阳极厚度来调节微腔，但这样就导致RGB的阳极结构高度不一致，会给阳极之后的制程工艺带来一定风险，例如旋涂时可能造成不均匀。

如中国专利CN109742266A公开了一种OLED微腔结构的制作方法，该制作方法包括以下步骤：在基底上形成反射阳极；在反射阳极上形成需求像素所对应厚度的透明导电薄膜层；配合需求像素所对应的像素掩膜板对透明导电薄膜层和反射阳极进行构图以形成需求像素的图案；根据显示需求在得到的结构表面重复上述步骤直至得到显示装置所要求的像素显示结构。此专利中就是通过调节RGB像素对应的透明阳极厚度来调节微腔，但这样会导致RGB的阳极结构高度不一致，会给阳极之后的制程工艺带来一定风险，例如旋涂时可能造成不均匀。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供了一种Micro OLED微腔结构及其制备方法，通过反射阳极+透明导电层+透明阳极的阳极结构，将反射阳极设置为不同的厚度，然后通过透明导电层来调节微腔进而保证透明阳极的高度一致，方便后续制程的进行，该方法可实现单独调节不同颜色的微腔长度。

本发明还提供了一种OLED器件，其含有本发明所述的Micro OLED微腔结构。

为实现上述目的，本发明采取的技术方案如下：

一种Micro OLED微腔结构的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：

(1)在CMOS基板上制备像素定义层；

(2)重复多次黄光制程，制备出不同厚度的R反射阳极、G反射阳极、B反射阳极；

(3)在反射阳极及像素定义层之上打印一层透明导电胶并固化形成透明导电层；

(4)将透明导电层整体减薄至像素定义层之上的透明导电层消失，这样分别在R反射阳极、G反射阳极、B反射阳极之上形成了不同厚度的透明导电层；

(5)在透明导电层之上制备一层透明阳极，即分别在R反射阳极、G反射阳极、B反射阳极之上的透明导电层之上形成了R透明阳极、G透明阳极、B透明阳极；

(6)通过蒸镀制程完成后续的有机功能层、阴极的制备。

所述像素定义层的高度高于反射阳极的高度。