[发明专利]一种集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜及其制备方法

权利要求书

1.一种集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜，其特征在于，包括：第一粘结层，分别设于所述第一粘结层两侧面上的第一高分子基膜，分别设于各所述第一高分子基膜的空余面上的杂化涂层，分别设于各所述杂化涂层的空余面上的第二粘结层，分别设于各所述第二粘结层的空余面上的红色光敏转化层及绿色光敏转化层，分别设于所述红色光敏转化层及所述绿色光敏转化层的空余面上的第三粘结层，及分别设于各所述第三粘结层的空余面上的第二高分子基膜；

所述杂化涂层包括无机涂层及无机膜层；所述无机涂层面涂布于所述第一高分子基膜的空余面上，由分散的无机粒子构成；所述无机膜层为致密结构以使所述无机粒子镶嵌其中；所述无机粒子的粒径为2nm~5nm，所述无机膜层的厚度为3nm~10nm。

2.根据权利要求1所述的集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜，其特征在于，所述杂化涂层为异质结构，所述无机粒子包括ZnO、TiO₂中的一种或几种，所述无机膜层包括Al₂O₃、SiO₂、Si₃N₄中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜，其特征在于，所述第一粘结层为OCA胶层，其光透过率大于95%，折射率大于1.55。

4.根据权利要求1所述的集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜，其特征在于，所述第二粘结层及所述第三粘连结层均包括光固化后的聚氨酯丙烯酸酯，厚度均为2μm~3μm。

5.根据权利要求1所述的集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜，其特征在于，所述第一高分子基膜与所述第二高分子基膜的材质相同，所述第一高分子基膜的厚度为10μm~50μm，所述第二高分子基膜的厚度为50μm~100μm。

6.根据权利要求1所述的集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜，其特征在于，所述红色光敏转化层包括固化后的光敏树脂，及均匀分散于所述光敏树脂内的红色量子点；所述绿色光敏转化层包括固化后的光敏树脂，及均匀分散于所述光敏树脂内的绿色量子点；所述红色光敏转化层及所述绿色光敏转化层的厚度均为2μm~8μm。

7.根据权利要求1所述的集成有阻隔结构的背光显示用光转换膜，其特征在于，包括保护层，所述保护层分别设于各所述第二高分子基膜的空余面上；

所述保护层包括热固化后的丙烯酸酯，及均匀分散于所述丙烯酸酯内的抗刮擦粒子；所述保护层的厚度为5μm~8μm，所述抗刮擦粒子的粒径为2μm~3μm。