[发明专利]GCT芯片阴极梳条修理工艺方法在审
申请号: | 202310041049.0 | 申请日: | 2023-01-11 |
公开(公告)号: | CN115966465A | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 高山城;赖贵森;谢永泉;刘玲 | 申请(专利权)人: | 西安派瑞功率半导体变流技术股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/332 | 分类号: | H01L21/332;H01L21/285;H01L21/3213;H01L21/56 |
代理公司: | 西安文盛专利代理有限公司 61100 | 代理人: | 彭冬英 |
地址: | 710077 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | gct 芯片 阴极 修理 工艺 方法 | ||
本发明涉及GCT芯片梳条修理工艺方法,先在梳条上蒸一层铝层A,提高梳条与门极区的纵向高度,增加纵向阴极梳条与门极区隔离间隔。然后在梳条和门极区同时再蒸一层铝层B,提高了门极区和梳条图形加工质量,有利于提高芯片的性能;给芯片的上表面覆盖一层光敏聚酰亚铵绝缘保护材料层;然后针对极个别不合格梳条,除了铲除铝层外,还增加了研磨该梳条的工艺方法,使该梳条高度与门极区电极铝层相平;之后在不合格梳条上涂绝缘保护材料,绝缘该梳条,使之不与阴极钼片接触,屏蔽该失效梳条带来的负面影响。使用该工艺方法可以挽救大量芯片,使成品率显著提高。实践还证明,芯片性能未受影响情况下,使用本发明成品率至少提高30%。
技术领域
本发明涉及功率半导体器件的制造技术领域,具体涉及到一种新型功率半导体器件GCT阴极梳条的修理工艺方法。
技术背景
众所周知,新型功率半导体器件GCT为全控型器件,既能控制器件开通,又能控制器件关断。如图1所示是GCT芯片结构示意图,其中Z-Z’为芯片的局部剖面图,芯片的下表面为阳极A,上表面分为阴极K和集成门极G,阴极K由成千上万个梳条1并联组成,决定着芯片的通流能力,为提高开通和关断电流速度,设计每个梳条1周围是整体连通的门极区2,起快速注入和抽取电流的作用,即提高开通和关断能力,门极区2表面大部分铝层覆盖着绝缘保护材料层4,只有中间一个圆环露出铝面,引出集成门极G电极,将来与外电路相接,加载控制信号。在门极区2和梳条1之间设计了一个环形的PN结3,给这个环形PN结3加正向电压控制GCT芯片的导通,给这个环形PN结3加反向电压控制其关断,可见门极区2和梳条1上面的电极铝层必须沿环形PN结3两侧隔离,否则由于铝层短路无法加载控制信号,而且要求隔离间距要尽量小,否则芯片的开通和关断性能会下降。横向上,依靠铝层的间隔而隔离,纵向上依靠梳条1和门极区2的铝层的高度差悬空且在门极区2和环形PN结3上填充绝缘保护材料层4而隔离。
可见,这些梳条1是构成半导体器件GCT的重要组成部分,半导体芯片梳条1的好坏直接关系到半导体器件是否能作为合格产品,因为这些梳条1是并联集成在芯片的上表面,某个梳条1特性不好或不合格,芯片的最始特性由该梳条1的特性决定,因此在制造工艺过程中对半导体芯片梳条1的加工要求十分严格。但在加工中由于多种因素,成千上万个梳条难免会出现极个别加工不符合要求的现象,由于这些半导体芯片的价值都十分昂贵,为了使这部分半导体芯片不被废弃,需要对梳条1作进一步的修理工艺,使半导体芯片恢复合格要求。现行技术给上表面蒸一层20um厚度的铝层,横向隔离依靠在铝膜上刻60um槽而隔离,纵向隔离依靠梳条1与门极区2本身芯片存在12um的高度差悬空而隔离。对GCT芯片中不合格梳条1,要么采取直接放弃,要么采用铲除所蒸的20um的铝层,使该梳条1上表面低于其它梳条20um高度差悬空而隔离,为增加隔离效果,又在该梳条上涂一层绝缘材料层,屏蔽该梳条1,使该梳条1不能与上钼片接触,恢复芯片合格特性,然而现行技术由于阴极梳条1上铝层仅有20um,易造成:
1、由于不合格梳条1去铝层不干净,极易造成毛刺短路。
2、纵向的屏蔽间距只有12um,屏蔽间距不够,存在放电的可能。
3、横向隔离间距只有60um,由于铝层过厚,光刻工艺槽线条图形光滑度加工质量不好,极易造成门极区和阴极梳条之间短路。
发明内容
本发明的目的是针对当前GCT芯片制造过程中梳条不合格修理工艺方法的不足,提出一种使半导体芯片不合格梳条修理更合理、更科学、更完整的GCT芯片阴极梳条修理工艺方法,以完成对多梳条结构半导体芯片中不合格梳条的修理工作,使芯片恢复合格特性,提高GCT芯片生产制造过程中合格率。
本发明采用的技术方案:一种GCT芯片阴极梳条修理工艺方法,其特征在于:掺杂完Si芯片为基础,依次经过下列步骤:
(1)首先给Si芯片上的梳条单独蒸一层铝层A,目的是提高梳条与门极区之间的纵向高度;
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