[发明专利]一种CAF失效的工艺解决方法在审

专利信息
申请号: 202310031610.7 申请日: 2023-01-10
公开(公告)号: CN116234189A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 张德虎;吴浩宇 申请(专利权)人: 黄石沪士电子有限公司
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 湖北省黄石市经济技术*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 一种 caf 失效 工艺 解决方法
【权利要求书】:

1.一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,包括:

在裁好的基板上制作内层图形,控制内层图形的线宽范围,得到内层板;

将内层板与半固化片进行棕化、叠合、压合和拆板的工艺处理,得到多层板;在棕化工艺中,控制棕化线离子的污染范围;在压合工艺中,控制压点与动粘度曲线的匹配度;

在多层板的不同层之间使用钻针钻出通孔;

对多层板进行高压水洗、除胶、化学铜和电镀铜的工艺处理;

在多层板上制作外层图形,控制外层图形的线宽范围;

对多层板进行防焊前处理,控制防焊前处理时离子的污染范围;

对多层板进行防焊处理,将多层板裁切成型,得到PCB板;

对PCB板进行电气性能测试、表面处理、外观检验和CAF测试,在CAF测试前对测试板的绝缘阻值进行筛选。

2.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,所述在裁好的基板上制作内层图形,得到内层板,包括:

对基板进行压膜、曝光、显影、蚀刻和退膜的工艺处理;在蚀刻工艺前需制作初片,确认初片线宽结果,调整蚀刻参数;所述内层图形的线宽范围为-20%≤X<0%。

3.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,所述在多层板上制作外层图形,控制外层图形的线宽范围,包括:

对多层板进行压膜、曝光、显影、蚀刻和退膜的工艺处理;在蚀刻工艺前需制作初片,确认初片线宽结果,调整蚀刻参数;所述外层图形的线宽范围为-20%≤X<0%。

4.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,所述棕化线离子的污染范围控制在棕化线离子的污染≤0.5ug NaCL/cm2

5.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,在压合工艺中,控制压点与动粘度曲线的匹配度,包括:

控制上压点的温度区间范围在中值的±5%以内。

6.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,所述钻针是新针,所述钻针的寿命是1000孔。

7.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,所述对多层板进行高压水洗、除胶、化学铜和电镀铜的工艺处理,包括:

在进行除胶工艺处理时,先制作除胶初片,在SEM下观察除胶初片的除胶效果;当除胶初片中的树脂、经纬向玻纤和内层铜箔表面均干净且无胶残留时,则符合除胶工艺要求。

8.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,所述防焊前处理时离子的污染范围控制在离子的污染≤0.5ug NaCL/cm2

9.根据权利要求1所述的一种CAF失效的工艺解决方法,其特征在于,所述对PCB板进行电气性能测试、表面处理、外观检验和CAF测试,在CAF测试前对测试板的绝缘阻值进行筛选,包括:

在对PCB板进行CAF测试前,挑选绝缘阻值>1.0E+10Ω的测试板。

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