[发明专利]涂敷膜形成方法、涂敷膜形成装置和程序

权利要求书

1.一种涂敷膜形成方法，其特征在于，包括：

涂敷工序，其对基片的正面的中心部供给涂敷液，使所述基片旋转以使所述涂敷液向该基片的周缘部扩展而形成涂敷膜；

高温气体供给工序，其对旋转的该基片的背面的露出区域的一部分，供给温度比被供给了所述涂敷液的所述基片高的高温气体；

膜厚分布调整工序，其使所述基片以第一转速旋转来调整所述基片的面内的所述涂敷膜的膜厚分布；和

干燥工序，其在所述膜厚分布调整工序后，使该基片以与所述第一转速不同的第二转速旋转，来调整所述基片的整个面内的该涂敷膜的膜厚来使之干燥，

其中，进行所述干燥工序的期间包含停止向所述基片供给所述高温气体的期间。

2.如权利要求1所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

包括背面清洗工序，其在所述干燥工序之后，对旋转的所述基片的背面的露出区域供给清洗液。

3.如权利要求2所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

所述高温气体供给工序包括从设置在气体喷嘴的第一释放口释放所述高温气体的工序，

所述清洗工序包括从设置在清洗喷嘴的第二释放口释放所述清洗液的工序，

所述第一释放口沿着所述高温气体的释放方向投影到所述基片的背面而得到的第一投影区域，与所述第二释放口沿着该清洗液的释放方向投影到所述基片的背面而得到的第二投影区域相比，位于所述基片的旋转方向上的下游侧。

4.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

所述高温气体供给工序包括从气体喷嘴对所述基片的背面的露出区域释放所述高温气体的工序，

所述高温气体的释放方向顺着所述基片的旋转方向。

5.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

在对所述基片供给涂敷液之前，开始对所述基片供给所述高温气体。

6.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

所述加热工序包括从气体喷嘴对所述基片的背面的露出区域释放所述高温气体的工序，

所述涂敷工序、所述高温气体供给工序、所述膜厚分布工序和所述干燥工序是对载置于载置台的所述基片进行的工序，包括：

将多个所述基片依次输送到该载置台的工序；和

在与连续输送到所述载置台的一个基片与下一个基片的输送间隔相应的时刻，开始进行用于处理所述下一个基片的、来自所述气体喷嘴的所述高温气体的释放的工序。

7.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

所述高温气体供给工序包括从气体喷嘴对所述基片的背面的露出区域释放所述高温气体的工序，

设置有：下游端被连接到所述气体喷嘴的气体供给路径；从该气体供给路径分支的分支路径；和将所述高温气体的供给目标在所述气体喷嘴与所述分支路径之间切换的切换部，

所述高温气体供给工序包括：利用所述切换部从对所述分支路径供给所述高温气体的状态切换成向所述气体喷嘴供给所述高温气体的状态的工序。

8.如权利要求7所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

所述涂敷工序、所述高温气体供给工序、所述膜厚分布调整工序和所述干燥工序是对载置在载置台并且被杯状体包围的所述基片进行的工序，

所述切换部设置在比所述杯状体靠下方的高度。

9.如权利要求7所述的涂敷膜形成方法，其特征在于：

所述涂敷工序、所述高温气体供给工序、所述干燥工序是对载置在载置台且被杯状体包围的所述基片进行的工序，

所述气体供给路径包括在设置所述切换部的位置的上游侧于左右方向上延伸并且相对于所述杯状体排列在前后中的一方被设置的部位，

所述涂敷膜形成方法包括：将供给至所述分支路径的所述高温气体，从与该分支路径的下游端连接的杯状体温度调节喷嘴向所述部位与所述杯状体之间的左右中的一方作为该杯状体的温度调节用气体释放的工序。