[发明专利]CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜及其制备方法在审
申请号: | 202310002713.0 | 申请日: | 2023-01-03 |
公开(公告)号: | CN116041794A | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 陈炜;刘奕奕;齐伟;胡胜;卢铃;曹浩 | 申请(专利权)人: | 国网湖南省电力有限公司;国网湖南省电力有限公司电力科学研究院;国家电网有限公司 |
主分类号: | C08L1/02 | 分类号: | C08L1/02;C08K3/14;C08K3/08;C08J5/18;H05K9/00 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 黄丽 |
地址: | 410004 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cnf mxene ga 电磁 屏蔽 复合 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜及其制备方法,包括将MXene分散于水中,加入金属Ga,先常温超声,然后在冰浴条件下超声,得到均匀的MXene@Ga的水分散液;将纤维素纳米纤维CNF加入到分散液中混合均匀,进行真空辅助抽滤,然后加入沸点低于水的水溶性有机溶剂继续真空抽滤,进行溶剂交换,重复多次,待抽干有机溶剂,取下膜进行干燥,得到CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜。该电磁屏蔽复合膜具有层层堆积的多层结构,还具有很好的柔韧性和抗拉伸强度,同时具备电磁屏蔽、焦耳加热、光热转化等功能。
技术领域
本发明属于纳米材料技术领域,具体涉及一种CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜及其制备方法。
背景技术
随着5G时代的来临和通信技术的高速发展,电磁干扰对设备的正常工作以及人体的健康产生的影响不可忽视。尤其是电子设备轻量化、便携式的发展趋势,对电磁屏蔽材料提出了新的要求。MXene(二维过渡金属碳化物、氮化物或碳氮化物)作为一种高导电的二维材料,在电磁屏蔽领域得到广泛关注,而其中又以Ti3C2 MXene性能最佳。镓(Ga)作为一种液态金属(熔点29.8℃)具有极低的蒸气压和无毒性,在柔性电子、药物运输、机器人等领域颇有前景。固态镓在超声波的作用下易分散成微米或纳米粒子,由于其相变、高导热、高导电的特性在纳米材料领域具有应用潜力。作为电子设备的界面材料,仅实现电磁屏蔽的功能是不够的,如在低温环境下需要对设备进行控温以保证正常运行。因此,如何在现有的电磁屏蔽材料的基础功能之上,开发新材料以赋予电磁屏蔽材料焦耳加热、光热转化等能力,使其能够在低电压或者光照条件下实现设备的温控成为当务之急。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种可提高MXene基材料机械强度、实现电磁屏蔽、电热、光热转化等热管理功能的CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜及其制备方法。
为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案。
一种CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜的制备方法,包括以下步骤:
(1)将MXene分散于水中,加入金属Ga,先常温超声,然后在冰浴条件下超声,得到均匀的MXene@Ga的水分散液;
(2)将纤维素纳米纤维CNF加入到MXene@Ga的水分散液中混合均匀,进行真空辅助抽滤,然后加入沸点低于水的水溶性有机溶剂继续真空抽滤,以进行溶剂交换,重复多次,待抽干有机溶剂,取下膜进行干燥,得到CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜。
上述的CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜的制备方法,优选的,步骤(1)中,所述MXene与金属Ga的质量比为2~10∶1,所述MXene分散于水中的浓度为1mg/mL~3mg/mL。
上述的CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜的制备方法,优选的,步骤(1)中,所述常温超声的时间为3min~5min,所述常温超声与在冰浴条件下超声的总时间为10min~20min,每超声3s~5s停1s~3s。
上述的CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜的制备方法,优选的,步骤(1)中,所述MXene为Ti3C2。
上述的CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜的制备方法,优选的,所述MXene与所述纤维素纳米纤维CNF的质量比为1~9∶1。
上述的CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜的制备方法,优选的,步骤(2)中,所述混合均匀采用涡旋振荡方式,振荡时间为10min~20min。
上述的CNF/MXene@Ga电磁屏蔽复合膜的制备方法,优选的,步骤(2)中,所述沸点低于水的水溶性有机溶剂为乙醇和丙酮中的一种。
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