[实用新型]一种箱式真空镀膜机的进出料机构

说明书

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体是一种箱式真空镀膜机的进出料机构，包括：箱体，所述箱体上设置有箱门，所述箱体顶部设置有真空设备，用于箱体内的真空处理，所述箱体内还固定安装有镀膜设备，所述镀膜设备一侧设置有靶材，用于镀膜处理；靶材放置组件，所述靶材放置组件设置在箱体内的镀膜设备一侧，用于镀膜时镀膜材料靶材的放置处理；送料组件，所述送料组件设置在靶材放置组件一侧，用于对靶材放置组件内放置的靶材进行输送从而使得靶材达到镀膜设备内进行镀膜；该机构在镀膜机进行镀膜时能够自动的将镀膜靶材传递至镀膜机内进行镀膜，从而提高镀膜工作效率与质量。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体是一种箱式真空镀膜机的进出料机构。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种，需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。

现有的真空镀膜机在进行基片镀膜时，需要对待镀膜的基片进行供料处理，及将靶材送入镀膜机内的基片上部从而进行基片镀膜处理，现有的靶材送料方式是每次将镀膜机打开，然后将靶材放置在基片上，然后关闭镀膜机并进行抽真空处理，然后进行镀膜，但是该种镀膜方式效率较低，且难以保证基片与靶材相对应。

因此，我们提出一种箱式真空镀膜机的进出料机构用已经解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种箱式真空镀膜机的进出料机构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种箱式真空镀膜机的进出料机构，包括：箱体，所述箱体上设置有箱门，所述箱体顶部设置有真空设备，用于箱体内的真空处理，所述箱体内还固定安装有镀膜设备，所述镀膜设备一侧设置有靶材，用于镀膜处理；

靶材放置组件，所述靶材放置组件设置在箱体内的镀膜设备一侧，用于镀膜时镀膜材料靶材的放置处理；

送料组件，所述送料组件设置在靶材放置组件一侧，用于对靶材放置组件内放置的靶材进行输送从而使得靶材达到镀膜设备内进行镀膜。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

该镀膜机送料机构在使用时，能够将镀膜机工作时使用的靶材自动输送至镀膜设备内，从而进行镀膜处理，在进行镀膜送料时首先将靶材放置在靶材放置组件内，然后通过送料组件将靶材推动至一侧的镀膜机内，从而可进行镀膜时的自动送料工作。

附图说明

图1为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的主视图。

图2为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的主剖视图。

图3为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的放置框架的俯视图。

图4为一种箱式真空镀膜机的进出料机构放置框架左视图。

图5为一种箱式真空镀膜机的进出料机构的固定槽框的后视图。

图中：1-箱体，2-箱门，3-真空设备，4-镀膜设备，5-放置框架，6-弹簧，7-压板，8-靶材，9-固定槽框，10-滑槽，11-转动板，12-摇板，13-活动槽，14-固定柱，15-滑块，16-推块，17-锁定螺母，18-落料框。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本专利的技术方案作进一步详细地说明。