[实用新型]半导体设备的补液系统有效

专利信息
申请号: 202223191142.X 申请日: 2022-11-30
公开(公告)号: CN218631952U 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 雷德发;袁晓飞 申请(专利权)人: 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 吴浩
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体设备 补液 系统
【权利要求书】:

1.一种半导体设备的补液系统,其特征在于,包括:主补液槽、辅补液槽、通液阀和供液装置;

所述主补液槽和所述辅补液槽均用于容纳冷却液;

所述主补液槽、所述辅补液槽和所述供液装置均与所述通液阀连接;

所述通液阀用于控制所述主补液槽和所述辅补液槽内的冷却液通入所述供液装置,或用于控制所述供液装置内的冷却液通入所述主补液槽和所述辅补液槽;所述通液阀配置为使得所述主补液槽与所述供液装置相连通时,所述辅补液槽与所述供液装置相隔离;所述辅补液槽与所述供液装置相连通时,所述主补液槽与所述供液装置相隔离;

所述供液装置参与构成若干半导体设备的冷却液通路,用于向所述若干半导体设备供给冷却液。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述供液装置包括储液容器、阻值传感器、液位传感器、处理器、存储器和显示器;

所述储液容器与所述通液阀连接,用于存储冷却液;

所述阻值传感器用于检测所述储液容器内的冷却液的水阻值;

所述液位传感器用于检测所述储液容器内的冷却液的液位高度值;

所述处理器用于判断所述水阻值是否满足预设的水阻阈值,还用于判断所述液位高度值是否满足预设的液位高度阈值;所述处理器用于在冷却液不满足所述水阻阈值或液位高度阈值时向所述显示器输出报警信息;

所述存储器用于存储预设的所述水阻阈值和所述液位高度阈值;

所述显示器用于实时显示所述水阻值、所述液位高度值和所述报警信息。

3.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述主补液槽内设有第一容器、第二容器、控制阀;

所述第一容器用于容纳第一液体;

所述第二容器与所述通液阀连接,用于容纳水阻值小于所述第一液体的第二液体;

所述第一容器和所述第二容器均与所述控制阀连接;

所述控制阀用于控制所述第一容器是否与所述第二容器连通;当所述第一容器与所述第二容器连通时,所述第一液体进入所述第二容器,所述第一液体与所述第二液体混合以配制成所述冷却液。

4.根据权利要求3所述的系统,其特征在于,

所述处理器与所述控制阀电连接,用于根据所述水阻值控制所述第一容器是否与所述第二容器连通;

所述处理器与所述通液阀电连接,用于根据所述液位高度值控制通液阀的冷却液是否流向所述储液容器。

5.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述供液装置连接有第一温控装置和第二温控装置;

所述第一温控装置用于控制流经所述第一温控装置的冷却液温度满足第一温度阈值,以使连通所述第一温控装置的半导体设备被满足第一温度阈值的冷却液冷却;

所述第二温控装置用于控制流经所述第二温控装置的冷却液温度满足第二温度阈值,以使连通所述第二温控装置的半导体设备被满足第二温度阈值的冷却液冷却。

6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,所述第一温控装置和第一半导体设备之间串接有手阀和流量计;

所述流量计用于实时显示从所述第一温控装置的冷却液流向所述第一半导体设备的流量值;

所述手阀用于控制所述流量值的大小。

7.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述供液装置连接有循环管路;所述循环管路用于将所述半导体设备内的冷却液通入所述供液装置,以使所述冷却液能够在所述半导体设备内和所述供液装置间往复循环流动。

8.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述储液容器还连接有液泵;所述液泵的一端与所述通液阀连接;所述处理器与所述液泵电性连接,以控制所述液泵的工作状态。

9.根据权利要求2所述的系统,其特征在于,所述处理器电连接有报警器;当所述储液容器内的冷却液的液位高度值超出所述预设的液位高度阈值时,所述处理器用于控制所述报警器发出报警。

10.根据权利要求8所述的系统,其特征在于,当所述储液容器内的冷却液的液位高度值超出所述预设的液位高度阈值时,所述处理器用于控制所述液泵停止运转。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司,未经上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202223191142.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top