[实用新型]一种喷淋压力可控的单晶硅片清洗机

权利要求书

1.一种喷淋压力可控的单晶硅片清洗机，包括清洗机(1)，所述清洗机(1)上方左侧设有分流管(7)，所述分流管(7)外侧壁设有多组喷淋嘴(8)，所述清洗机(1)左侧壁设有水泵(2)，所述水泵(2)出水端连接设有第一输水管(3)，所述分流管(7)侧壁连接设有第二输水管(6)，其特征在于：所述第一输水管(3)一端连接设有连接管(5)，所述连接管(5)一端与第二输水管(6)一端相连接，所述连接管(5)外侧壁套接安装设有固定板(4)，所述固定板(4)内前后两侧均开设有第二空腔(11)，两组所述第二空腔(11)内滑动连接设有滑动板(14)，所述连接管(5)内设有两组挡板(13)，两组所述挡板(13)相远离端分别贯穿连接管(5)内前后侧壁与两组所述滑动板(14)相对侧壁相连接，所述固定板(4)内左侧开设有第一空腔(10)，所述第一空腔(10)内设有调节机构(12)。

2.根据权利要求1所述的一种喷淋压力可控的单晶硅片清洗机，其特征在于：所述调节机构(12)包括第一空腔(10)内设有的双向丝杆(123)，两组所述双向丝杆(123)两端分别与第一空腔(10)内前后侧壁设有的轴承相连接，所述双向丝杆(123)前后外壁均套接设有滑块(122)，两组所述滑块(122)右侧壁分别与两组所述滑动板(14)左侧壁相连接，所述双向丝杆(123)外壁套接安装设有从动锥齿轮(121)，所述第一空腔(10)内设有与从动锥齿轮(121)相啮合的主动锥齿轮(126)，所述主动锥齿轮(126)左侧壁设有转轴(125)，所述转轴(125)一端贯穿第一空腔(10)内左侧壁与外部设有的调节旋钮(124)相连接。

3.根据权利要求2所述的一种喷淋压力可控的单晶硅片清洗机，其特征在于：所述第一空腔(10)内左侧壁前后两侧均开设有导向槽，两组所述滑块(122)左侧壁均设有与导向槽相匹配的导向块。

4.根据权利要求1所述的一种喷淋压力可控的单晶硅片清洗机，其特征在于：两组所述第二空腔(11)内右侧壁均开设有限位槽，两组所述滑动板(14)右侧壁均设有与限位槽相匹配的限位块。

5.根据权利要求1所述的一种喷淋压力可控的单晶硅片清洗机，其特征在于：多组所述喷淋嘴(8)在所述分流管(7)前侧壁呈线性阵列分布。

6.根据权利要求1所述的一种喷淋压力可控的单晶硅片清洗机，其特征在于：所述清洗机(1)顶部前后两侧均设有连接杆(9)，两组所述连接杆(9)一端均与分流管(7)外侧壁相连接。