[实用新型]硅片稳定翻转装置有效
申请号: | 202223121810.1 | 申请日: | 2022-11-24 |
公开(公告)号: | CN218769468U | 公开(公告)日: | 2023-03-28 |
发明(设计)人: | 马广 | 申请(专利权)人: | 无锡莹杰智能装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 杭州派肯专利代理有限公司 33414 | 代理人: | 郭薇 |
地址: | 214111 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅片 稳定 翻转 装置 | ||
本申请揭示了一种硅片稳定翻转装置,包括:基座,内部设有安置腔,安置腔内部设置有安置条,安置条上设有定位件;翻转机构,包括第一驱动装置、翻转件和第一空窗,翻转件上设置有翻转吸盘;承接机构,包括第二驱动装置、承接件和第二空窗,承接件上设置有承接吸盘,其中,承接件和翻转件错位设置;转移装置。本实用新型提供的硅片稳定翻转装置,通过翻转件的翻转以及承接件的承接将硅片的翻转分解为两个步骤,每个步骤翻转吸盘或承接吸盘均位于硅片下侧对硅片进行承托,将硅片平稳放置,实现对硅片的稳定翻转,硅片不存在掉落的风险,硅片翻转的可靠性、稳定性更高。且仅通过定位件即能对硅片位置进行限定,结构简单,定位准确。
技术领域
本实用新型涉及光伏太阳能电池技术领域,特别涉及一种硅片稳定翻转装置。
背景技术
在晶体硅太阳能电池的加工生产中,随着硅片加工工艺的不断改进,硅片的双面加工技术越来越成熟。目前,部分工艺为对硅片的双面分各个单面逐步进行加工,这就需要将单面完成加工的硅片翻转后再次进行加工。如在镀膜阶段,单面镀膜完成之后需要将硅片翻转,由于不能对硅片进行直接性的接触,所以需要人工使用小吸嘴逐片进行翻转,导致这一加工工序耗时又耗费人力,且有碎片的风险,翻转效率低下,生产成本高。
现有技术中也有利用吸盘对硅片进行翻转的装置,使用吸盘将硅片吸起来,然后由翻转气缸控制其翻转,不仅需要复杂的硅片定位机构,且当硅片重量较大时,硅片经过翻转位于吸盘下侧时,吸盘不能够牢牢的吸住硅片,存在硅片掉落的风险,利用吸盘对硅片进行翻转的装置可靠性、稳定性较低。
实用新型内容
本实用新型的主要目的为提供一种硅片稳定翻转装置,旨在解决当下硅片翻转设备定位机构复杂,且硅片进行翻转时可靠性、稳定性较低的问题。
为了实现上述目的,本实用新型提供一种硅片稳定翻转装置,包括:
基座,内部设有安置腔,所述安置腔内部设置有安置条,所述安置条设置于所述安置腔长度方向的中部且沿所述安置腔宽度方向延伸,所述安置条上设有定位件;
翻转机构,包括第一驱动装置、翻转件和第一空窗,所述第一驱动装置固定设置在所述基座前端面,所述翻转件铰接于所述安置条,所述翻转件上端面设置有至少一个翻转吸盘;
承接机构,包括第二驱动装置、承接件和第二空窗,所述第二驱动装置固定设置在所述基座后端面,所述承接件铰接于所述安置条,所述承接件上端面设置有至少一个承接吸盘,其中,所述承接件和所述翻转件错位设置,且位于所述安置条在所述安置腔长度方向的两侧;
转移装置,设置于所述基座宽度方向两端。
进一步地,所述转移装置的上表面超出于所述硅片稳定翻转装置的上表面。
进一步地,所述翻转件和所述承接件分别位于硅片宽度方向的两端,且在所述硅片宽度方向上间隔设置。
进一步地,多个所述翻转吸盘的上表面与所述翻转件上表面平齐;多个所述承接吸盘的上表面与所述承接件上表面平齐。
进一步地,所述翻转件上表面和所述承接件上表面设置有缓冲层。
进一步地,所述翻转件和所述承接件的上表面设置有防滑结构。
进一步地,所述基座上设置有与所述翻转吸盘连接的第一气压泵;所述基座上设置有与所述承接吸盘连接的第二气压泵。
进一步地,所述定位件上设置有柔性保护件。
进一步地,所述基座下端面设置有四个长度可调的支撑腿。
进一步地,所述支撑腿的长度采用液压的方式调节。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造