[实用新型]测试基座有效
申请号: | 202222999580.2 | 申请日: | 2022-11-08 |
公开(公告)号: | CN218956690U | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 张书维 | 申请(专利权)人: | 稜研科技股份有限公司 |
主分类号: | G01R29/10 | 分类号: | G01R29/10 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 黎艳 |
地址: | 中国台湾台北市大安区敦化*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测试 基座 | ||
本实用新型提供一种测试基座,包括壳体、承载件、波吸收件及填充体。壳体具有内表面。承载件设置于壳体上,承载件包括上表面、下表面及凹陷于上表面的凹槽,凹槽适于容置待测组件,下表面与壳体的内表面共同定义腔体。波吸收件设置于壳体的内表面。填充体填充于腔体,接触波吸收件与承载件。填充体的相对介电常数小于等于2。本发明的测试基座可有助提供较真实的测试结果。
技术领域
本实用新型涉及一种测试基座,且特别是涉及一种适用于天线的测试基座。
背景技术
平面天线(特别是贴片天线)的辐射态样会随着馈入点变化,因此通常采取测量和验证程序来验证平面天线的特性。常规的测试方法是透过如图1所示的探测系统来进行测试。
图1是习知的一种探测系统的示意图。请参阅图1,探测系统10包括平台12、两探针14及显微镜透镜16。平台12用来承载待测组件(例如是平面天线,未绘示),两探针14位于平台12的上方,且用来接触待测组件的馈入点与接地点。显微镜透镜16位于平台12与两探针14的上方。然而,待测组件的辐射场型实际上受到附近金属的影响,而难以得到较真实的测试结果。
实用新型内容
本实用新型提供一种测试基座,其可有助提供较真实的测试结果。
本实用新型的一种测试基座,包括壳体、承载件、波吸收件及填充体。壳体具有内表面。承载件设置于壳体上,承载件包括上表面、下表面及凹陷于上表面的凹槽,凹槽适于容置待测组件,其中下表面与壳体的内表面共同定义腔体。波吸收件设置于壳体的内表面。填充体填充于腔体,接触波吸收件与承载件,其中填充体的相对介电常数(relativepermittivity)小于等于2。
在本实用新型的一实施例中,上述的承载件对应在凹槽处的厚度小于5毫米。
在本实用新型的一实施例中,上述的承载件包括贯孔,贯孔位于凹槽并自承载件的上表面连通至承载件的下表面。
在本实用新型的一实施例中,上述的波吸收件还设置于承载件的下表面在对应于凹槽以外的部位。
在本实用新型的一实施例中,上述的下表面为平面。
在本实用新型的一实施例中,上述的下表面为弧面。
在本实用新型的一实施例中,上述的凹槽的直径或长度为D公分,测试基座适于测试的待测组件辐射信号的波长大于等于λ公分,腔体的深度大于等于2D2/λ公分。
在本实用新型的一实施例中,上述的填充体的等效相对介电常数介于1.2至1.6之间。
在本实用新型的一实施例中,上述的填充体包括多个填料层,这些填料层具有不同的多个相对介电常数,这些填料层的这些相对介电常数沿着越远离承载件的方向越大。
在本实用新型的一实施例中,上述的填充体的材料包括泡沫聚四氟乙烯(PTFE)或泡沫聚乙烯(PE),且发泡度介于50%至80%之间。
基于上述,本实用新型的测试基座的承载件的下表面与壳体的内表面共同定义腔体,波吸收件设置于壳体的内表面,填充体填充于腔体,填充体的相对介电常数小于等于2,待测组件位于承载件在凹陷于上表面的凹槽。波吸收件用来吸收待测组件(例如是平面天线)向下辐射的能量,以较佳地模拟开阔环境。填充体对承载件提供支撑,填充体的相对介电常数小于等于2,较接近空气环境。本实用新型的测试基座可较佳地模拟开阔的空气环境,而有助提供较真实的测试结果。
为让本实用新型的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图作详细说明如下。
附图说明
图1是习知的一种探测系统的示意图;
图2A是依照本实用新型的一实施例的一种测试基座的示意图;
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