[实用新型]介电质膜高反射镜

说明书

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，具体公开了一种介电质膜高反射镜，包括基底及堆叠设置在基底上并包括交替堆叠设置的若干全介电质低折射率膜层和若干全介电质高折射率膜层的反射膜，全介电质低折射率膜层的折射率小于1.55，全介电质高折射率膜层的折射率大于2，单个全介电质低折射率膜层和单个全介电质高折射率膜层的厚度分别为2‑200nm，反射膜的厚度为1300‑3000nm。上述介电质膜高反射镜采用介电质低折射率膜层和介电质高折射率膜层交替堆叠设置，光束在各膜层界面反射回前表层的光产生相长干涉，反射率提高；各膜层均由全介电质材料成型，不含单质金属层，避免了氧化和受潮问题，延长了介电质膜高反射镜的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域，特别是涉及一种反射率高且不易氧化受潮的介电质膜高反射镜。

背景技术

高反射镜是通过在基底材料上镀设高反射膜，来提高镜面反射率的镜子，其中，高反射膜是指具有增加反射功能的光学薄膜，主要包括金属反射膜和全电介质反射膜，或两者结合起来的金属电介质反射膜。传统的高反射镜通常采用银、铝等金属材料真空蒸发或溅射而成，这类采用银、铝等金属膜制成的高反射镜，主要依赖于金属本征的反射光泽，反射率难以进一提升；且金属膜层在使用过程中容易氧化，或受潮而导致光谱反射率下降，使得光学器件使用寿命及可靠性不足。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述不足，提供一种反射率高且不易氧化受潮的介电质膜高反射镜。

一种介电质膜高反射镜，包括基底以及堆叠设置在基底上的反射膜，所述反射膜包括交替堆叠设置在基底上的若干全介电质低折射率膜层和若干全介电质高折射率膜层，所述全介电质低折射率膜层的折射率小于1.55，所述全介电质高折射率膜层的折射率大于2，单个全介电质低折射率膜层和单个全介电质高折射率膜层的厚度分别为2-200nm，所述反射膜的厚度为1300-3000nm。

在其中一个实施例中，所述基底由玻璃或塑胶或陶瓷材料制成。

在其中一个实施例中，全介电质低折射率膜层和全介电质高折射率膜层通过真空气相沉积法依序堆叠成膜。

在其中一个实施例中，所述全介电质高折射率膜层由TiO₂或Nb₂O₅或Ta₂O₅或ZrO₂材料制成。

在其中一个实施例中，所述全介电质低折射率膜层由SiO₂或MgF₂材料制成。

在其中一个实施例中，所述介电质膜高反射镜的反射率大于98％。

实施本实用新型的介电质膜高反射镜，采用若干全介电质低折射率膜层和若干全介电质高折射率膜层交替堆叠设置，形成反射膜，光束在各膜层界面反射回前表层的光产生相长干涉，相较于金属膜，本介电质膜高反射镜的反射率提高；各膜层均由全介电质材料成型，不含单质金属层，避免了因单质金属层存在的情况下氧化和受潮问题，在提升反射率的同时，不易氧化及受潮，有利于延长介电质膜高反射镜的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型的一个实施例中介电质膜高反射镜的结构示意图；

图2为本实用新型的一个实施例中介电质膜高反射镜的反射原理图；

图3为本实用新型的一个实施例中介电质膜高反射镜的反射光谱图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。