[实用新型]介电质膜高反射镜有效
| 申请号： | 202222874482.6 | 申请日： | 2022-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN218728130U | 公开（公告）日： | 2023-03-24 |
| 发明（设计）人： | 吴茂;杨建文 | 申请（专利权）人： | 伯恩光学（惠州）有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G02B1/10 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 秦冬梅;郭伟刚 |
| 地址： | 516000 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 质膜 反射 | ||
【权利要求书】：
1.一种介电质膜高反射镜，其特征在于，包括基底以及堆叠设置在基底上的反射膜，所述反射膜包括交替堆叠设置在基底上的若干全介电质低折射率膜层和若干全介电质高折射率膜层，所述全介电质低折射率膜层的折射率小于1.55，所述全介电质高折射率膜层的折射率大于2，单个全介电质低折射率膜层和单个全介电质高折射率膜层的厚度分别为2-200nm，所述反射膜的厚度为1300-3000nm。
2.根据权利要求1所述的介电质膜高反射镜，其特征在于，所述基底由玻璃或塑胶或陶瓷材料制成。
3.根据权利要求2所述的介电质膜高反射镜，其特征在于，各全介电质低折射率膜层和全介电质高折射率膜层通过真空气相沉积法依序堆叠成膜。
4.根据权利要求3所述的介电质膜高反射镜，其特征在于，所述全介电质高折射率膜层由TiO2或Nb2O5或Ta2O5或ZrO2材料制成。
5.根据权利要求4所述的介电质膜高反射镜，其特征在于，所述全介电质低折射率膜层由SiO2或MgF2材料制成。
6.根据权利要求5所述的介电质膜高反射镜，其特征在于，所述介电质膜高反射镜的反射率大于98％。
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