[实用新型]一种光罩转运装置以及光刻机

说明书

本实用新型公开一种光罩转运装置以及光刻机，其中，所述光罩转运装置包括主体以及防护结构，所述主体用以活动设置于光刻机内，所述主体的底部设置有抓取结构，所述抓取结构用以抓取光罩；所述防护结构安装于所述主体，且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托，所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态，以防护由所述抓取结构抓取的光罩，以及远离所述抓取结构的避让状态。本实用新型旨在解决现有光刻机中光罩转运时，光罩存在掉落损坏甚至损伤机台的问题。

技术领域

本实用新型涉及光刻机结构技术领域，具体涉及一种光罩转运装置以及光刻机。

背景技术

现有光刻机中，机台内部传送光罩过程中，存在光罩掉落的风险，一旦光罩掉落对光罩自身以及机台有很大损害，损失巨大的同时造成产线停摆。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种光罩转运装置以及光刻机，旨在解决现有光刻机中光罩转运时，光罩存在掉落损坏甚至损伤机台的问题。

为实现上述目的，本实用新型提出一种光罩转运装置，其中，所述光罩装运装置包括主体以及防护结构，所述主体用以活动设置于光刻机内，所述主体的底部设置有抓取结构，所述抓取结构用以抓取光罩；所述防护结构安装于所述主体，且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托，所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态，以防护由所述抓取结构抓取的光罩，以及远离所述抓取结构的避让状态。

可选地，所述防护结构包括转动安装于所述主体上的转动臂，所述转动臂的端部安装所述防护底托。

可选地，所述防护底托上设置有吹气结构，所述吹气结构用以清洁光罩表面。

可选地，所述防护底托朝向所述主体的端面设置有柔性防护垫。

可选地，所述主体上设置有检测装置，所述检测装置对应于所述抓取结构设置，用以检测所述抓取结构上的光罩状态。

可选地，所述抓取结构包括气吸结构。

可选地，所述气吸结构包括间隔设置的两个气吸座，所述气吸座用以吸取光罩的两侧边沿以避让其中部的功能部位；

所述防护底托对应设置为两个活动底托，以使得所述防护状态的所述活动底托对应于光罩的两侧边沿位置设置。

可选地，所述气吸座的端面设置有吸盘，所述吸盘的气路内设置有真空传感器。

可选地，所述气吸座的端面设置有距离传感器，所述距离传感器用以检测光罩与所述气吸座之间的距离。

本实用新型还提出一种光刻机，其中，所述光刻机包括光罩转运装置，所述光罩装运装置包括主体以及防护结构，所述主体用以活动设置于光刻机内，所述主体的底部设置有抓取结构，所述抓取结构用以抓取光罩；所述防护结构安装于所述主体，且所述防护结构包括一活动设置于所述主体下方的防护底托，所述防护底托在其活动行程上具有位于所述抓取结构下方的防护状态，以防护由所述抓取结构抓取的光罩，以及远离所述抓取结构的避让状态。

本实用新型的技术方案中，通过所述主体上的所述抓取结构抓取光罩，再通过所述主体在光刻机内的活动实现光罩的转运，同时在所述主体上安装所述防护结构，通过所述防护结构上的所述防护底托，对光罩起到防护作用。具体地，所述防护底托可活动设置，以使得在其活动行程上具有位于光罩下的所述防护状态以及远离光罩的所述避让状态，在所述抓取结构抓取光罩时，所述防护底托位于所述避让状态，以避免影响光罩的正常取放，而在所述主体活动带动光罩移动时，所述防护底托活动至所述防护状态，以在光罩下方进行防护，在光罩掉落时可承接光罩，避免光罩掉落至机台造成的光罩自身损伤以及机台的损伤。

附图说明