[实用新型]一种抛釉砖有效

专利信息
申请号: 202222675459.4 申请日: 2022-10-12
公开(公告)号: CN218437960U 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 曾权;徐登翔;王正旺;罗文帝;管霞菲;曾立华;张巧燕;李刚;叶行涛;向发清;马占领;谢穗 申请(专利权)人: 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司
主分类号: E04F13/14 分类号: E04F13/14;E04F15/08
代理公司: 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 代理人: 何慧敏
地址: 528031 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛釉砖
【权利要求书】:

1.一种抛釉砖,其特征在于:包括由下至上依次设置的坯体层、图案层和耐磨透明抛釉层,所述耐磨透明抛釉层的厚度为0.2~0.4mm;

还包括发色保护层,且所述发色保护层设置于所述图案层的底部和/或所述图案层的顶部,所述发色保护层用于促进所述图案层的发色。

2.根据权利要求1所述的一种抛釉砖,其特征在于:所述耐磨透明抛釉层的上表面向下凹陷设有凹纹,且所述凹纹设有多个。

3.根据权利要求2所述的一种抛釉砖,其特征在于:多个所述凹纹的深度互不相同;所述凹纹的深度为0.1~0.4mm,且所述凹纹的深度小于等于所述耐磨透明抛釉层的厚度。

4.根据权利要求2所述的一种抛釉砖,其特征在于:多个所述凹纹的宽度互不相同;所述凹纹的宽度为0.5~2mm。

5.根据权利要求1所述的一种抛釉砖,其特征在于:所述坯体层包括基体层和凸条,所述凸条突出设置于所述基体层的底面。

6.根据权利要求5所述的一种抛釉砖,其特征在于:所述凸条包括支撑条,所述支撑条设置有多条,多条所述支撑条围绕所述基体层的底部边缘设置,且所述支撑条之间留有排气缺口。

7.根据权利要求6所述的一种抛釉砖,其特征在于:所述凸条还包括收缩块,所述收缩块设置有多个,多个所述收缩块呈阵列分布地位于所述基体层的底部中央。

8.根据权利要求7所述的一种抛釉砖,其特征在于:所述凸条还包括收缩条,所述收缩条设置有多条,多条所述收缩条设置于所述支撑条和所述收缩块之间;

所述收缩条之间留有排气通道,且所述排气通道的延伸方向从所述基体层的中央朝向所述基体层的边缘。

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