[实用新型]一种直线式PECVD设备

说明书

本实用新型提供了一种直线式PECVD设备，其包含多个腔室，从进料端依次包含：进料腔，预热腔、多个反应腔、冷却腔和出料腔；所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均为独立的腔室，进料腔进料口和出料腔出料口及相邻腔室之间均设有密封隔断组件。当相邻两反应腔进行不同的沉积反应时，该两个反应腔之间还设有独立的缓冲腔；所述缓冲腔与反应腔之间也设有密封隔断组件。该直线式PECVD设备通过各个独立腔室的设置，及进料腔和出料腔的设置可以优化预热腔和冷却腔的功能，将稳定反应腔工艺气体和压力的时间节拍放在预热腔和冷却腔进行，减少反应腔的工艺沉积时间，从而大大缩短了整体节拍，有效提升设备产能。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池生产设备领域，尤其涉及一种直线式PECVD设备。

背景技术

目前PECVD有链式和团簇式，其中在HJT使用的PECVD基本上是使用链式，链式PECVD采用多个腔体连接起来，有的是多个工艺腔拼接在一起，但每个腔室均有独立的阀门和独立的泵组；另外一种是工艺腔室中间没有阀门，与工艺腔连接的前后腔有阀门。

多个工艺腔是拼接在一起，工艺腔之间没有阀门，当各工艺腔使用不同的工艺气体条件时，各工艺腔的气体会发生串扰，导致工艺不稳定，工艺灵活性差。

申请人的在先申请CN 214736083 U公开了一种优化沉积腔的线式PECVD设备，其通过优化沉积腔提升生产效率，对各沉积反应进行分段，在满足工艺需求的前提下，提升整线运行节拍，即节约沉积时间，又保证了工艺的可灵活调整性。但是当载板要从预热腔到工艺腔时，在阀门打开时，工艺腔需要Ar吹扫，确保工艺腔内无工艺气体，当吹扫完成后预热腔与工艺腔的阀门打开，载板传入工艺腔，工艺腔需要充气稳定腔体内压力，压力稳定后才开始做沉积工艺；工艺完成后载板传出还需要重复刚才的吹扫动作，这样能确保各工艺气体不串气。但这也相应增加稳定工艺腔腔体内压力及传出的前吹扫的节拍时间，相当于腔室吹扫的时间需要算入整体的工艺节拍中；另外载板传送到位后工艺腔内需要充工艺气体，且需要一定的时间来稳定工艺腔体内的压力，且工艺沉积完成后需要抽掉工艺气体。工艺执行过程种充气、稳压和抽气占用的时间太多，导致设备生产节拍拉长，产能减少。再者I_N段工艺腔有沉积I层和N层，两种沉积的工艺气体不一样，要保证工艺腔内气体不串扰有一定的困难，吹扫的时间需要加长。个别膜层的工艺沉积时间较长，如微晶工艺，使得各膜层的工艺时间不匹配，节拍加长，整体的产能进一步降低，要保证产能需要增加更多的工艺腔，设备产线加长，能耗增高。因此，现有技术存在不足。

发明内容

针对上述问题，本实用新型提供了一种直线式PECVD设备，通过在原来的预热腔和冷却腔前分别增加一个进料腔和出料腔，同时将预热腔和冷却腔内的功能细分，优化整体流程，提升设备生产能力，设备除必要的工艺时间和机械动作时间外，其他的时间均可在膜层沉积工艺时间内完成，大大缩短了整体节拍，提升设备产能。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种直线式PECVD设备，所述直线式PECVD包含多个腔室，其从进料端依次包含：进料腔，预热腔、多个反应腔、冷却腔和出料腔；所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均为独立的腔室，进料腔进料口和出料腔出料口及相邻腔室之间均设有密封隔断组件。

进一步，所述当相邻两反应腔进行不同的沉积反应时，该两个反应腔之间还设有独立的缓冲腔；所述缓冲腔与反应腔之间设有密封隔断组件。

进一步的，所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均设置有进气装置和配套的独立干泵系统。

进一步的，所述反应腔还设置有加热装置，优选的所述加热装置为可以升降的加热板。

进一步的，所述缓冲腔设置有进气装置和配套的独立干泵系统。

进一步的，所述缓冲腔还设置有加热装置。

和现有技术相比，本实用新型提供的直线式PECVD设备具有如下有益效果：