[实用新型]一种直线式PECVD设备有效
| 申请号： | 202222647490.7 | 申请日： | 2022-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN218812082U | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 杨与胜;庄辉虎;练小洪 | 申请（专利权）人： | 福建金石能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;C23C16/50 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362000 福建省泉州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 直线 pecvd 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种直线式PECVD设备，其包含多个腔室，其特征在于：所述直线式PECVD设备从进料端依次包含：进料腔，预热腔、多个反应腔、冷却腔和出料腔；所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均为独立的腔室，进料腔进料口和出料腔出料口及相邻腔室之间均设有密封隔断组件。
2.根据权利要求1所述的直线式PECVD设备，其特征在于：所述相邻两个反应腔之间还设有独立的缓冲腔；所述缓冲腔与反应腔之间设有密封隔断组件。
3.根据权利要求1所述的直线式PECVD设备，其特征在于：所述进料腔、预热腔、反应腔、冷却腔和出料腔均设置有进气装置和配套的独立干泵系统。
4.根据权利要求1或3所述的直线式PECVD设备，其特征在于：所述反应腔还设置有加热装置，所述加热装置为可以升降的加热板。
5.根据权利要求2所述的直线式PECVD设备，其特征在于：所述缓冲腔设置有进气装置和配套的独立干泵系统。
6.根据权利要求5所述的直线式PECVD设备，其特征在于：所述缓冲腔还设置有加热装置。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
