[实用新型]一种精准对位的双面光刻系统

说明书

本实用新型公开了一种精准对位的双面光刻系统，包括CCD组件，CCD组件包括：对位相机，并沿着龙门式平台对称设置两个且进行移动，用于对PCB组件定位，本实用新型的双面光刻系统，通过设有两组CCD对准机构，CCD对准机构在X轴和Y轴上可移动以实现定位，使得光刻PCB板两面一致，保证其光刻质量，并可以对PCB板进行双面光刻工作。

技术领域

本实用新型涉及双面光刻技术领域，具体涉及一种精准对位的双面光刻系统。

背景技术

中国专利CN114047675A公开了一种升降式光刻机及其加工方法，涉及光学加工技术领域，包括基座、双龙门、光学机构、对位机构和工作台机构；光学机构包括光刻镜头，光刻镜头和镜头移动板；对位机构包括对位相机；工作台机构包括上工作台和下工作台，上工作台上设有上斜块升降机构，上工作台通过上斜块升降机构对台面进行垂直升降；下工作台上设有下斜块升降机构，下工作台通过下斜块升降机构对台面进行垂直升降；

但是上述的现有技术中，CCD组件设置成单组，位于工作台面的上方，使得不能完成对PCB板进行双面定位、双面光刻的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于解决不能有效解决针对不同尺寸厚度的PCB板进行双面定位、双面光刻的问题，而提出一种精准对位的双面光刻系统。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现：

一种精准对位的双面光刻系统，包括CCD组件，CCD组件包括：

对位相机，并沿着龙门式平台对称设置两个且进行移动，用于对PCB组件定位。

作为本实用新型进一步的方案：对位相机沿着X轴和Y轴方向移动。

作为本实用新型进一步的方案：龙门式平台：为PCB组件的载体，并沿着底座往返移动，包括具有高度差的龙门式上平台和龙门式下平台，或同一高度的龙门式左平台和龙门式右平台。

作为本实用新型进一步的方案：龙门式上平台和龙门式下平台为U型支撑结构。

作为本实用新型进一步的方案：龙门式左平台和龙门式右平台为U型支撑结构。

作为本实用新型进一步的方案：光刻组件包括光刻镜头，并沿着龙门式平台对称设置两个且进行移动，用于对PCB组件光刻。

作为本实用新型进一步的方案：龙门式上平台顶面的水平高度高于龙门式下平台顶面的水平高度。

作为本实用新型进一步的方案：龙门式上平台的宽度大于龙门式下平台的宽度。

作为本实用新型进一步的方案：龙门式平台与底座之间通过滑轨方式进行连接。

本实用新型的有益效果：

本实用新型的双面光刻系统，通过设有两组CCD对准机构，CCD对准机构在X轴和Y轴上可移动以实现定位，使得光刻PCB板两面一致，保证其光刻质量，并可以对PCB板进行双面光刻工作。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

图1是本实用新型上下龙门式平台光刻系统的结构示意图；

图2是本实用新型上下龙门式平台光刻系统的俯视图；

图3是本实用新型图2中C-C的剖视图；

图4是本实用新型左右龙门式平台光刻系统的结构示意图；

图5是本实用新型左右龙门式平台光刻系统的结构示意图；

图6是本实用新型图5中D-D的剖视图；

图7是本实用新型压紧机构的结构示意图；