[实用新型]一种精准对位的双面光刻系统有效
| 申请号： | 202222619079.9 | 申请日： | 2022-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN218099934U | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 王华;陈志特;朱敏;甘泉;黄海浩 | 申请（专利权）人： | 广东科视光学技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市华盛智荟知识产权代理事务所(普通合伙) 44604 | 代理人： | 胡国英 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 精准 对位 双面 光刻 系统 | ||
1.一种精准对位的双面光刻系统，包括CCD组件，其特征在于，CCD组件包括：
对位相机，并沿着龙门式平台对称设置两个且进行移动，用于对PCB组件(9)定位。
2.根据权利要求1所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，对位相机沿着X轴和Y轴方向移动。
3.根据权利要求1所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，
龙门式平台：为PCB组件(9)的载体，并沿着底座(1)往返移动，包括具有高度差的龙门式上平台(31)和龙门式下平台(41)，或同一高度的龙门式左平台(32)和龙门式右平台(42)。
4.根据权利要求3所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，龙门式上平台(31)和龙门式下平台(41)为U型支撑结构。
5.根据权利要求4所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，龙门式左平台(32)和龙门式右平台(42)为U型支撑结构。
6.根据权利要求5所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，光刻组件包括光刻镜头，并沿着龙门式平台对称设置两个且进行移动，用于对PCB组件(9)光刻。
7.根据权利要求3所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，龙门式上平台(31)顶面的水平高度高于龙门式下平台(41)顶面的水平高度。
8.根据权利要求7所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，龙门式上平台(31)的宽度大于龙门式下平台(41)的宽度。
9.根据权利要求8所述的一种精准对位的双面光刻系统,其特征在于，龙门式平台与底座(1)之间通过滑轨方式进行连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东科视光学技术股份有限公司，未经广东科视光学技术股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202222619079.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
