[实用新型]硅片腐蚀用腐蚀花篮

权利要求书

1.一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，包括镂空底座和手柄，所述镂空底座上以其中心点为原点径向均布有至少三组承载部，所述承载部包括至少两个承载件，所述承载件沿同一径向方向上自原点向外的方向上依次安装在所述镂空底座上，且自原点向外的方向上，所述承载件的高度依次增加；所述承载件上部外侧向上延伸出限位件，相同高度的所述承载件和所述限位件共同限定出用于容纳硅片的容纳空间；所述手柄两端安装在所述镂空底座上、且靠近所述镂空底座边缘。

2.根据权利要求1所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，所述容纳空间内靠近其边缘处周向均布有多个支撑件，所述支撑件高度与限定出该容纳空间的所述承载件高度相同，所述支撑件与限定出该容纳空间的所述承载件径向错位安装在所述镂空底座上。

3.根据权利要求2所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，所述承载件上表面为外侧高、内侧低的倾斜面，所述倾斜面的倾斜角度为10°-15°，所述承载件上表面宽度为2mm-3mm，所述支撑件为圆锥形柱体，其上表面直径为1mm-2mm。

4.根据权利要求3所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，还包括用于将硅片固定在所述承载件上的下压伸缩件，所述下压伸缩件一端固定在所述手柄上，另一端为自由端，所述自由端为圆锥体状，所述圆锥体状竖截面自上至下逐渐减小。

5.根据权利要求4所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，所述镂空底座由N层环形部件和连接支架组成，N层所述环形部件同轴设置，N＞2，且自原点向外所述环形部件的直径依次增大；所述连接支架设有多个，径向均布在所述环形部件上，所述连接支架一端固定在最内层的所述环形部件外侧壁，另一端沿径向方向向外穿过中间层的所述环形部件固定在最外层的所述环形部件的内侧壁。

6.一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，包括镂空底座和手柄，所述镂空底座上以其中心点为原点径向均布有至少三组承载部，所述承载部包括第一滑动部件、第一滑块和第一承载件，所述第一滑动部件径向安装在所述镂空底座上，所述第一滑块安装在所述第一滑动部件上，且能够在所述第一滑动部件上滑动，所述第一滑块侧壁开设有定位孔，所述承载件安装在所述第一滑块上，所述承载件上部外侧向上延伸出限位件，多组所述承载部中的所述承载件和所述限位件共同限定出用于容纳硅片的容纳空间，所述手柄安装在所述镂空底座上、且靠近所述镂空底座的边缘。

7.根据权利要求6所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，还包括多个支撑部，所述支撑部径向安装在所述镂空底座上，且与所述承载部间隔设置，所述支撑部包括第二滑动部件、第二滑块和第二支撑件，所述第二滑块安装在所述第二滑动部件上，所述支撑件安装在所述第二滑块上，所述第二滑块侧壁开设有定位孔，所述支撑件上表面与所述承载件上表面在同一水平面上。

8.根据权利要求6或7所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，所述镂空底座由N层环形部件和连接支架组成，N层所述环形部件同轴设置，N＞2，且自原点向外所述环形部件的直径依次增大，相邻两个所述环形部件具有设定间距，所述连接支架设有多个，径向均布在所述环形部件上，所述连接支架一端固定在最内层的所述环形部件外侧壁，另一端沿径向方向向外穿过中间层的所述环形部件固定在最外层的所述环形部件的内侧壁。

9.根据权利要求8所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，所述第一滑动部件和第二滑动部件为安装在连接支架上的滑轨，所述滑轨上表面刻有刻度，所述滑块安装在所述滑轨上；

或者所述第一滑动部件和第二滑动部件为开设在所述连接支架上的滑槽，所述连接支架上对应滑槽的位置刻有刻度，所述滑块安装在所述滑槽内。

10.根据权利要求9所述的一种硅片腐蚀用腐蚀花篮，其特征在于，还包括用于将硅片压在所述承载件上的下压伸缩件，所述下压伸缩件一端固定在所述手柄上，另一端为自由端，所述自由端为圆锥体状，所述圆锥体状竖截面自上至下逐渐减小。