[实用新型]一种铬版光罩周转箱有效
申请号: | 202222255261.0 | 申请日: | 2022-08-26 |
公开(公告)号: | CN218158721U | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
发明(设计)人: | 刘玉闯;司继伟;杜武兵 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 成都行之智信知识产权代理有限公司 51256 | 代理人: | 李林 |
地址: | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铬版光罩 周转 | ||
本实用新型公开了一种铬版光罩周转箱,以解决铬版光罩在周转时容易被静电击伤的问题,该铬版光罩周转箱包括:箱体,所述箱体具有用于装取铬版光罩的装取槽;导电体,所述导电体设置在所述装取槽内以在装取铬版光罩时持续与铬版光罩接触,所述导电体具有位于所述箱体外的接地端。本实用新型通过导电体的设置,能够将产生的静电释放到地端,从而可以避免静电将铬版光罩击伤,继而能够保证铬版光罩的产品品质,提高铬版光罩的产品良率。
技术领域
本实用新型涉及显示面板制造技术领域,具体而言,涉及一种铬版光罩周转箱。
背景技术
随着显示技术的发展,对面板产品的精度要求也越来越高。铬版光罩作为显示面板行业曝光用的母版,也相应的提高了其制作精度和图形复杂程度要求。设计图形关键尺寸从3um,提高到1.5um。图形线条复杂程度升高,导致光罩在生产过程中更容易发生静电击伤现象,单从图案设计上解决静电击伤较为困难,因此一般从光罩整个生产过程中逐一采取措施,以降低静电击伤现象。
尤其是在光罩生产过程流转中,需要不停的取放光罩,取放过程中的摩擦,大幅提升了光罩产生静电的可能性,从而极易使光罩在生产过程中发生静电击伤现象。小范围击伤,会需要增加线路修补和清洗工序,降低了生产效率,如出现大范围击伤,则会导致光罩产品直接报废,造成巨大的产品损失。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是如何消除铬版光罩上产生的静电,目的在于提供一种铬版光罩周转箱。
本实用新型通过下述技术方案实现:
一种铬版光罩周转箱,包括:
箱体,所述箱体具有用于装取铬版光罩的装取槽;
导电体,所述导电体设置在所述装取槽内以在装取铬版光罩时持续与铬版光罩接触,所述导电体具有位于所述箱体外的接地端。
在一种可能的设计中,所述导电体呈箔状。
在一种可能的设计中,包括连接件,所述连接件与所述导电体连接,所述连接件还与所述箱体可拆卸连接。
在一种可能的设计中,所述连接件可拆卸连接于所述箱体的外侧壁上。
在一种可能的设计中,所述连接件与所述箱体卡接。
在一种可能的设计中,所述箱体上设置有把手。
在一种可能的设计中,包括与所述箱体适配的盖体。
在一种可能的设计中,所述盖体上设置有用于监测装取槽内温度的温度计。
在一种可能的设计中,所述盖体上设置有用于监测装取槽内湿度的湿度计。
在一种可能的设计中,所述导电体为铜件。
本实用新型与现有技术相比,具有如下的优点和有益效果:
1、本实用新型实施例提供的一种铬版光罩周转箱,铬版光罩在装取过程中与导电体发生持续接触,导电体与箱体之间由于摩擦产生的静电经过导电体被释放到地端,从而避免静电将铬版光罩图形线路击伤,继而保证铬版光罩产品品质,提高铬版光罩的生产良率。
2、本实用新型实施例提供的一种铬版光罩周转箱,结构简单,实施便捷,成本较低
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型示例性实施方式的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本实用新型实施例提供的铬版光罩周转箱的结构示意图;
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备