[实用新型]一种多工位旋转接头有效
| 申请号: | 202221969893.7 | 申请日: | 2022-07-28 |
| 公开(公告)号: | CN217768337U | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
| 发明(设计)人: | 周翔;丁晓华;陈洁;岳鑫;陈鸣 | 申请(专利权)人: | 深圳市鹰眼在线电子科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
| 代理公司: | 深圳市万商天勤知识产权事务所(普通合伙) 44279 | 代理人: | 罗建平 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 多工位 旋转 接头 | ||
本实用新型公开了一种多工位旋转接头,包括:套设在一起可相对旋转的真空分配座A和真空分配座B,真空分配座A上部外表面沿周向开设有N个导气槽,每个导气槽之间被隔离壁隔离;在气路通道和第六气路通道错位时,能保证第六气路通道导气孔至少和一个导气槽相通,通过气路通道、导气槽、第六气路通道形成气管接头a和气管接头b之间的连通气路,在气路通道和第六气路通道对准时,第六气路通道导气孔和一个气路通道相通,通过气路通道、第六气路通道形成气管接头a和气管接头b之间的连通气路,此时所有工位的正压和负压腔体均为独立气路,仅对释放产品的工位提供正压,其他工位上仍保持真空吸附不受影响,因此转换头结构更简单、真空吸附更稳定。
技术领域
本实用新型涉及集成电路器件加工技术领域,具体涉及一种多工位旋转接头。
背景技术
随着封装技术的不断发展,真空分配装置是多头贴装设备的重要组成部分,用来完成芯片的取放、测试、最终成品输出等步骤,直接影响芯片的加工生产过程,目前市场上涉及半导体芯片分选机多工位旋转接头,大部分旋转接头体积大、结构复杂、制作成本高,不利于半导体设备紧凑型开发。且大多数治具无法实现在破真空时所有工位正压和负压的气路独立。有些设备采用端面密封的结构方式实现独立正压,但负压始终为共用腔体,例如专利号:201920351413.2,有些设备采用环型真空腔和弹性堵气组件结构,例如申请号:202210304544.1,这些结构从芯片吸附至芯片释放过程中,负压始终保持吸附状态,当某个工位需破真空释放产品时,则将其对应的正压开启。以上例举的真空分配器治具的缺点主要有:
1)稳定性差:在释放产品过程中,无法做到负压的气路完全独立,共用负压腔体,负压始终保持吸附,当需要释放产品破真空时,正压的气体容易进入负压腔体,从而影响其他工位的负压吸附效果,导致其他工位负压吸附状态不稳定。
2)成本高:端面密封的结构方式对于零件的加工精度要求较高、价格昂贵,且端面密封的结构在运作过程中容易造成零件疲劳磨损,机械磨损时需维护,增加设备维护成本。弹性堵气组件结构方式结构复杂、弹性材料易老化,增加设备成本。
3)结构空间占用率较大:市面上大多数真空分配器体积大,长度较长,结构空间占用率相对较大,不利于设备整体小型化。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是提供一种多工位旋转接头,采用隔离壁将导气槽隔离结构,去除了弹性堵气组件,解决了现有技术结构复杂、稳定性差等问题。
为了实现以上目的,本实用新型采用的方案如下:
一种多工位旋转接头,包括:
真空分配座A,真空分配座A的底部下表面连接N个气管接头a,真空分配座A上部外表面沿周向开设有N个导气槽,每个导气槽之间被隔离壁隔离,真空分配座A内部设置有N个气路通道,气路通道和气管接头a一一对应,每个气管接头a和对应的气路通道一端连通,N个气路通道的另一端与N个导气槽一一对应连通;真空分配座B,真空分配座B套设在真空分配座A外部,真空分配座A与真空分配座B可相对旋转,真空分配座B对应N个导气槽的内壁沿周向设置有N个第六气路通道,第六气路通道靠近真空分配座B内壁一侧截面大于气路通道靠近真空分配座A外表面一侧截面和隔离壁截面,通过旋转真空分配座B,能够实现真空分配座A中的气路通道和第六气路通道的对准或错位,每个第六气路通道径向贯穿真空分配座B外壁且分别连通有气管接头b,在气路通道和第六气路通道错位时,能保证第六气路通道导气孔至少和一个导气槽相通,通过气路通道、导气槽、第六气路通道形成气管接头a和气管接头b之间的连通气路,在气路通道和第六气路通道对准时,第六气路通道导气孔和一个气路通道相通,通过气路通道、第六气路通道形成气管接头a和气管接头b之间的连通气路。
进一步,所述导气槽为圆弧槽。
进一步,所述隔离壁为圆弧形。
进一步,所述气路通道和第六气路通道截面为圆环形。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





