[实用新型]一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置

说明书

本实用新型公开了一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置，包括储液槽，储液槽上设置有循环出口、循环入口和减压循环入口，循环出口和循环入口之间连接有带循环泵的循环管道，储液槽内安装有温度传感器和对储液槽内药液进行加热的加热装置，储液槽上设置有出液口，出液口与带出液泵的出液管道一端连通，出液管道的另一端分别与供液管道和减压循环管道相连通，供液管道的另一端与单片湿法刻蚀机的刻蚀腔内的喷淋头连通，减压循环管道的另一端与储液槽上的减压循环入口连通，供液管道和减压循环管道上分别设置有第一控制阀和第二控制阀，该恒温供液装置不但能够实现恒温供液，而且能够避免在刻蚀等待过程中管道内的药液温度低于要求温度。

技术领域

本实用新型涉及一种恒温供液装置，尤其涉及一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置。

背景技术

单片湿法刻蚀机是一种半导体生产过程中所使用的刻蚀设备，硅片放入到刻蚀腔内旋转，然后利用刻蚀的药液对硅片的上表面喷淋从而完成刻蚀，而供液装置则是将药液提供给刻蚀腔中喷淋的一套装置，由于刻蚀的要求，对药液的温度要求比较高，需要实现动态恒温，而目前的供液装置虽然也能实现恒温供液，但是由于刻蚀的过程是间歇性的，因此，储液槽内的液体温度虽然能够达到刻蚀要求，但是由于刻蚀的间隙过程中，供液管道内的温度会有一定的下降，这样一旦等待时间较长时，供液管道喷淋的药液温度就无法满足要求。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置，该恒温供液装置不但能够实现恒温供液，而且能够避免在刻蚀等待过程中管道内的药液温度低于要求温度，解决了以往刻蚀的间隙过程中，供液管道内的温度会有所下降的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置，包括储液槽，储液槽上设置有循环出口、循环入口和减压循环入口，循环出口和循环入口之间连接有带循环泵的循环管道，储液槽内安装有温度传感器和对储液槽内药液进行加热的加热装置，储液槽上设置有出液口，出液口与带出液泵的出液管道一端连通，出液管道的另一端分别与供液管道和减压循环管道相连通，供液管道的另一端与单片湿法刻蚀机的刻蚀腔内的喷淋头连通，减压循环管道的另一端与储液槽上的减压循环入口连通，供液管道和减压循环管道上分别设置有第一控制阀和第二控制阀。

作为一种优选的方案，供液管道上设置有三通控制阀，三通控制阀的两个接口连接在供液管道上，另一个接口连接有辅助循环管道，该辅助循环管道与储液槽连通。

作为一种优选的方案，出液管道上设置有过滤器。

作为一种优选的方案，循环入口上设置有伸入到药液中的槽内管段，该槽内管段的端部设置有出液搅拌头。

作为一种优选的方案，供液管道上位于喷淋头的上游设置有压力表，储液槽上设置有液位传感器。

作为一种优选的方案，第一控制阀和第二控制阀均为气动控制阀，第一控制阀和第二控制阀的控制气路上分别设置有第一电磁阀和第二电磁阀。

作为一种优选的方案，刻蚀腔的底部和储液槽之间设置有回流管道。