[实用新型]一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置有效
| 申请号: | 202221292326.2 | 申请日: | 2022-05-26 |
| 公开(公告)号: | CN217691078U | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
| 发明(设计)人: | 张雪奎;牛立久;刘增增;周一雷;徐金鑫 | 申请(专利权)人: | 山东华楷微电子装备有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 苏州金项专利代理事务所(普通合伙) 32456 | 代理人: | 金星 |
| 地址: | 276800 山东省日照市日照高新区高新*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 单片 湿法 刻蚀 恒温 装置 | ||
1.一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置,包括储液槽,其特征在于:所述储液槽上设置有循环出口、循环入口和减压循环入口,所述循环出口和循环入口之间连接有带循环泵的循环管道,所述储液槽内安装有温度传感器和对储液槽内药液进行加热的加热装置,所述储液槽上设置有出液口,所述出液口与带出液泵的出液管道一端连通,出液管道的另一端分别与供液管道和减压循环管道相连通,所述供液管道的另一端与单片湿法刻蚀机的刻蚀腔内的喷淋头连通,所述减压循环管道的另一端与储液槽上的减压循环入口连通,所述供液管道和减压循环管道上分别设置有第一控制阀和第二控制阀。
2.如权利要求1所述的一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置,其特征在于:所述供液管道上设置有三通控制阀,所述三通控制阀的两个接口连接在供液管道上,另一个接口连接有辅助循环管道,该辅助循环管道与储液槽连通。
3.如权利要求2所述的一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置,其特征在于:所述出液管道上设置有过滤器。
4.如权利要求3所述的一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置,其特征在于:所述循环入口上设置有伸入到药液中的槽内管段,该槽内管段的端部设置有出液搅拌头。
5.如权利要求4所述的一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置,其特征在于:所述供液管道上位于喷淋头的上游设置有压力表,所述储液槽上设置有液位传感器。
6.如权利要求5所述的一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置,其特征在于:所述第一控制阀和第二控制阀均为气动控制阀,所述第一控制阀和第二控制阀的控制气路上分别设置有第一电磁阀和第二电磁阀。
7.如权利要求6所述的一种单片湿法刻蚀机的恒温供液装置,其特征在于:所述刻蚀腔的底部和储液槽之间设置有回流管道。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





