[实用新型]一种用于金刚石合成的微波等离子体反应器有效
| 申请号: | 202221243684.4 | 申请日: | 2022-05-23 | 
| 公开(公告)号: | CN217869085U | 公开(公告)日: | 2022-11-22 | 
| 发明(设计)人: | 宋学瑞 | 申请(专利权)人: | 合肥先端晶体科技有限责任公司 | 
| 主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/27;C23C16/455 | 
| 代理公司: | 合肥洪雷知识产权代理事务所(普通合伙) 34164 | 代理人: | 赵可 | 
| 地址: | 230000 安徽省合肥市合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 金刚石 合成 微波 等离子体 反应器 | ||
1.一种用于金刚石合成的微波等离子体反应器,其特征在于,包括腔体(1)和微波发生器(3),所述腔体(1)的顶部安装有微波耦合器(4);
所述微波发生器(3)发生的微波传输至微波耦合器(4);所述微波耦合器(4)的底部设有介电窗口(401);所述微波耦合器(4)通过介电窗口(401)将微波进给至腔体(1)内;
所述腔体(1)的上端为斜面(103);所述斜面(103)上对称安装有若干进气缓冲装置(2);所述进气缓冲装置(2)的一侧与进气管道(201)联通,所述进气缓冲装置(2)与斜面(103)的连接处设有若干进气口(101);
所述腔体(1)的底面两侧分别设有若干出气口(102);所述腔体(1)的底面中间设有基座(6);所述基座(6)上安装有一钼托(7);
所述基座(6)的上表面设有一用于安装钼托(7)的卡槽(601);所述基座(6)的中间设有一辅助出气管(603);所述辅助出气管(603)的上端设有若干支气管(604);所述支气管(604)的顶部开口设置在卡槽(601)底面上;
钼托(7)的下表面设有安装底座(701);所述安装底座(701)的下端面均匀设有若干用于通气的通气槽(703)。
2.根据权利要求1所述的一种用于金刚石合成的微波等离子体反应器,其特征在于,所述微波发生器(3)的出口端设有一三销钉调配器(301)。
3.根据权利要求1所述的一种用于金刚石合成的微波等离子体反应器,其特征在于,所述微波耦合器(4)的中间设有一天线(5);所述微波耦合器(4)和天线(5)内均设有可循环的冷却介质。
4.根据权利要求1所述的一种用于金刚石合成的微波等离子体反应器,其特征在于,所述卡槽(601)的内底面中间设有一定位凸起(602)。
5.根据权利要求4所述的一种用于金刚石合成的微波等离子体反应器,其特征在于,所述安装底座(701)的下表面中间设有一定位槽(702);所述定位槽(702)与定位凸起(602)配合。
6.根据权利要求1所述的一种用于金刚石合成的微波等离子体反应器,其特征在于,所述钼托(7)与卡槽(601)之间设有用于通气的间隙,所述间隙范围在1-50mm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥先端晶体科技有限责任公司,未经合肥先端晶体科技有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202221243684.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





