[实用新型]一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置

权利要求书

1.一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：包括：

分离箱组件(100)，所述分离箱组件(100)包括上部圆柱体(110)以及同轴心设置在所述上部圆柱体(110)底部并与所述上部圆柱体(110)内腔相贯通的下部圆锥体(120)；

进气管道组件(300)，所述进气管道组件(300)包括出气口插接在所述下部圆锥体(120)内腔进气口贯穿所述上部圆柱体(110)顶部的进气管道(310)以及相对称安装在所述进气管道(310)圆周外侧壁底部并与所述进气管道(310)内腔相贯通的圆弧出气口(320)，所述圆弧出气口(320)在所述下部圆锥体(120)的内腔。

2.根据权利要求1所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：所述上部圆柱体(110)包括圆柱体(111)以及设置在所述圆柱体(111)内腔侧壁上的内螺纹槽(112)。

3.根据权利要求2所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：所述下部圆锥体(120)包括圆锥体(121)以及设置在所述圆锥体(121)圆周外侧壁底部并与所述圆锥体(121)内腔相贯通的气泵连接口(122)，所述气泵连接口(122)与所述圆弧出气口(320)相对应。

4.根据权利要求3所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：所述分离箱组件(100)还包括同轴心设置在所述圆锥体(121)底部并与所述圆锥体(121)内腔相贯通的排尘管道(130)。

5.根据权利要求4所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：还包括顶盖组件(200)，所述顶盖组件(200)包括与所述圆柱体(111)顶部相接触的顶盖(210)以及同轴心设置在所述顶盖(210)底部并与所述内螺纹槽(112)相匹配的螺纹连接环(220)。

6.根据权利要求5所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：所述进气管道(310)包括进气管道本体(311)以及相对奇对称在所述进气管道本体(311)圆周外侧壁底部的第一连接法兰(312)。

7.根据权利要求6所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：所述圆弧出气口(320)包括与所述第一连接法兰(312)相连接的第二连接法兰(321)、设置在所述第二连接法兰(321)上远离所述第一连接法兰(312)一侧并与所述进气管道本体(311)内腔相贯通的罩盖(322)以及开设在所述罩盖(322)侧面的排气口(323)。

8.根据权利要求7所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：所述进气管道组件(300)还包括同轴心设置在所述进气管道(310)圆周外侧壁上临近进气口一端的第一限位块(330)，所述第一限位块(330)底部与所述顶盖(210)的顶部相连接。

9.根据权利要求8所述的一种双涡旋去除气体中杂质的分离装置，其特征在于：还包括排气管道组件(400)，所述排气管道组件(400)包括安装在所述顶盖(210)顶部并且贯穿所述顶盖(210)底部插接到圆柱体(111)内腔的排气管道(410)以及同轴心设置在所述排气管道(410)圆周外侧壁上并与所述顶盖(210)顶部相连接的第二限位块(420)，所述排气管道(410)与所述进气管道(310)相对称设置。