[实用新型]一种可移动式加热装置有效
| 申请号: | 202221183900.0 | 申请日: | 2022-05-17 |
| 公开(公告)号: | CN218175103U | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
| 发明(设计)人: | 许明明;董国庆;文国昇;董建民 | 申请(专利权)人: | 江西兆驰半导体有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/458;C23C16/511;C23C16/505;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 何世磊 |
| 地址: | 330096 江西省南昌市南*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 移动式 加热 装置 | ||
本实用新型提供了一种可移动式加热装置,其中加热载台上设有多个承载台、三个定位柱,承载台侧边设有三个凹形卡槽;移动载盘上设有多个承载槽、三个定位孔,承载槽内壁设有三个凸形卡柱;载盘边缘设有多个圆孔,加热载台底部设有多个加热器,并呈等间距环绕分布。利用移动载盘上的承载槽及凸形卡柱形成针对晶圆的单独提取机构,在制程过程中可将晶圆上下片在承载槽中单独进行,作业结束后也无需逐片将晶圆从加热载台取出,可省去大量的上下片耗时;同时生产人员的上下片过程不需要近距离接触加热载台,避免了人员上下片被高温烫伤的风险,在针对移动载盘上下片的同时,还可对加热载台同步实施预热操作,大大提升了设备的生产效率。
技术领域
本实用新型涉及PECVD工艺设备领域,具体涉及一种可移动式加热装置。
背景技术
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition等离子体增强化学气相沉积)是借助微波或射频使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,由于等离子体的化学活性很强,很容易发生反应,因此可在晶圆表面上沉积出所期望的薄膜。PECVD沉积的薄膜,膜层致密,均匀性好,可调节应力,优良的电学性能和热稳定性,良好的台阶覆盖性及衬底粘附性,满足特征光波长的折射率和透过率要求。
为了提升设备效率,PECVD设备的工艺腔越来越大,单次可作业片数越来越多,目前PECVD的加热载台通常采用固定式设置于设备中,不可移动,针对手动上下片PECVD设备,生产人员需要在制程开始前一片一片的将晶圆放入加热载台,加热载台放满后设备才可进行作业,同样的作业结束后生产人员需要一片一片的将晶圆取出并在全部取出后重复上述上片动作,由于加热载台温度在200-400℃范围,人员上下片存在高温烫伤风险,另外生产人员直接在加热载台进行上下片的动作耗时长,影响加热载台实施下一批加热作业的工作进度,大大降低了设备的生产效益,而加热载台结构通常体型笨重,并与加热器呈现集成化固定安装,且蓄热能力较强,因此难以将其整体搬离热源,导致操作人员必须靠近加热载台实施危险作业。因此,需要一种新的技术方案加以解决。
实用新型内容
针对上述现有技术中的不足,本实用新型提供了一种可移动式加热装置,有效避免加热载台上下片过程中的高温烫伤风险,同时大幅提升设备的生产效率。
本实用新型通过以下技术方案实施:一种可移动式加热装置,包括加热载台、移动载盘、多个加热器。所述加热载台上设有多个承载台、至少三个定位柱,每个所述承载台侧边设有至少三个凹形卡槽;所述移动载盘上设有多个承载槽、至少三个定位孔,每个所述承载槽内壁设有至少三个凸形卡柱;多个所述承载台与多个所述承载槽的中心轴线一一对应重合并呈套合对接,多个所述凹形卡槽与多个所述凸形卡柱的位置一一对应并呈镶嵌对接,每个所述承载槽上的多个所述凸形卡槽内边所组成的内切圆直径小于所述承载台直径;所述载盘边缘设有多个圆孔,所述加热载台底部设有多个所述加热器,所述加热器呈条状,并沿所述加热载台的中心轴线呈环绕分布,多个所述加热器的横截面呈等间距分布。
进一步的,所述加热载台及所述移动载盘的材料为铝合金、钛合金、钢中的一种。
进一步的,所述加热载台及所述移动载盘的材料类型相同。
进一步的,多个所述承载台、多个所述承载槽皆呈圆周阵列分布。
进一步的,多个所述定位柱、多个所述定位孔皆呈圆周阵列分布。
进一步的,所述定位柱顶端呈圆顶。
进一步的,所述定位孔朝向所述移动载盘底面的孔口设有锥形沉头孔。
本实用新型的有益效果是:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





