[实用新型]一种导流板有效
| 申请号: | 202221098686.9 | 申请日: | 2022-05-10 |
| 公开(公告)号: | CN217484692U | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
| 发明(设计)人: | 邓岗;程虎 | 申请(专利权)人: | 上海芯源微企业发展有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
| 地址: | 201306 上海市浦东新区临*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 导流 | ||
本实用新型提供了一种导流板,包括:凹槽;设置于所述凹槽内的若干通孔,用于气体流通;所述凹槽与盘盖表面形成排气腔体,使气体从晶圆所在区域通过所述若干通孔进入所述排气腔体后排出,能够增大排风吸力,改善排风的均匀性,有利于排出烘烤腔室内的挥发物。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种导流板。
背景技术
随着光刻技术要求的不断提高,对完成光刻工艺中各个工序的单元的要求也越来越高,烘烤单元在光刻工艺中,频繁出现。晶圆气象成底膜时需要烘烤,涂胶后需要软烘,曝光后需要烘烤,显影后需要硬烘。在光刻工艺中几乎每一步工艺后都需要进行烘烤,当然,烘烤目的都不一样,有的烘烤是为了释放涂胶过程中光阻的内应力,有的烘烤是为了提高显影过程中刻蚀和抵抗能力,有的烘烤是为了去除曝光后的驻波效应。但不管是以什么为目的的烘烤,在烘烤过程中,必须将挥发物排走。
相关技术中,烘烤设备的盘盖下方的烘烤腔室内的排风能力不佳,烘烤产生的挥发物的排出效果不好。
因此,有必要开发一种应用于烘烤设备的盘盖的导流板,以避免现有技术中存在的上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于一种导流板,能够有利于将烘烤产生的挥发物排出。
为实现上述目的,本实用新型提供的导流板,包括:凹槽,所述凹槽包括若干沟槽,所述若干沟槽自所述导流板的中心区域径向延伸至边缘区域;所述若干沟槽呈中心对称设置,其对称中心为所述导流板的圆心;设置于所述凹槽内的若干通孔,用于气体流通;所述凹槽与盘盖表面形成排气腔体,使气体从晶圆所在区域通过所述若干通孔进入所述排气腔体后排出。
本实用新型的所述导流板的有益效果在于:导流板的凹槽与盘盖表面形成排气腔体,挥发物从晶圆所在区域通过若干通孔进入所述排气腔体后排出,能够增大排风吸力,改善排风的均匀性,有利于排出烘烤腔室内的挥发物。
可选的,所述若干沟槽为封闭式直角沟槽。其有益效果在于:封闭式沟槽有利于增加排风吸力。
可选的,所述若干沟槽包括2N个沟槽,N为大于等于3的正整数。其有益效果在于:有利于改善圆周方向上的排风均匀性。
可选的,所述凹槽包括圆形型腔,所述圆形型腔与所述导流板同心设置,所述圆形型腔与所述若干沟槽相互贯通。
可选的,所述圆形型腔内设置有圆形凸台,所述圆形凸台上设置有轴向贯通所述导流板的中心孔,所述中心孔、所述圆形凸台和所述圆形型腔同心设置。
可选的,所述若干通孔沿所述若干沟槽的延伸方向等间距排列在所述若干沟槽内。
可选的,所述若干通孔中靠近所述导流板的边缘区域的孔的尺寸大于靠近中心区域的孔的尺寸。其有益效果在于:有利于改善中心区域和边缘区域的排风均匀性。
附图说明
图1为本实用新型实施例导流板的结构示意图;图2为图1所示的导流板与盘盖连接的剖面结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。除非另外定义,此处使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本文中使用的“包括”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。
本实用新型实施例提供了一种导流板。
图1为本实用新型实施例导流板的结构示意图;图2为图1所示的导流板与盘盖连接的剖面结构示意图。
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