[实用新型]磁控溅射的柱靶铁芯结构

说明书

本实用新型公开了磁控溅射的柱靶铁芯结构，包括柱靶铁芯组件，还包括冷却介质流动管道、封装组件，所述柱靶铁芯组件和封装组件上设有轴向的通孔，柱靶铁芯组件位于密封在封装组件内，所述冷却介质流动管道穿过柱靶铁芯组件和封装组件上的轴向的通孔。本实用新型能够避免冷却水对磁铁产生腐蚀。

技术领域

本实用新型涉及玻璃磁控溅射镀膜技术领域，具体涉及用于镀膜的磁控溅射的柱靶铁芯结构。

背景技术

当前磁控溅射镀膜应用越来越广泛，在磁控溅射镀膜过程中，约80％左右能量转化为热量，阴极靶材温度会快速升高，如不能及时进行冷却处理，会出现绑定靶材脱落、破损等情况，好多靶材，尤其是一些贵重靶材多数采用铟锡绑定，如ITO阴极靶材采用铟锡绑定在钛背管上，铟锡熔点约为180℃，达到铟锡熔点后，阴极靶材将会脱落。

现有的柱靶铁芯组件的结构如图1所示，柱靶铁芯组件A呈半圆形，柱靶铁芯组件A包括扼铁1、磁铁2、防水盖板3，扼铁1和防水盖板2均呈半圆形，在扼铁1的周面上设有沿着扼铁轴向延伸的凹槽，磁铁2的一端与凹槽配合，防水盖板3罩住磁铁2，为了冷却柱靶铁芯组件A，还设置有支架4，扼铁1的两端分别与支架4配合，支架4上通过螺钉5固定有安装座6，防水盖板3的两端分别与安装座6焊接固定，支架4的下部设有冷却水槽7，上述结构的柱靶铁芯组件A与支架结合后整体安装在靶管组件(图中未示出)内，使用时，水从冷却水槽7的一端输入，水从冷却水槽7的另一端输出，然后进入到柱靶铁芯组件A与靶管组件之间的空间中，最后从套管的输出口输出。

对于上述结构，防水盖板3相当于浸泡在水中，由于防水盖板3与安装座6是焊接固定的，两者之间必然存在焊接部位，对于长期浸泡在水中的焊接部位来说，容易受到腐蚀，从而导致水穿过焊接部位进入到防水盖板3内部并作用在磁铁2上。

由于磁控溅射所用的磁铁3为铁磁材料，长期接触水会产生腐蚀现象，影响磁铁3磁场强度，缩短磁铁3使用寿命，同时固定磁铁3的扼铁1为软铁，长期接触水会产生腐蚀现象，影响使用寿命。早期人们所采用的措施包括在磁铁3外面套一层热缩管，或者在扼铁1表面镀锌等，但对于无孔不入的水来说，均是治标不治本的办法。另外，在焊接过程中，还会因焊接应力引起变形，使柱靶铁芯组件的精度降低，在此情况下，可能会导致靶材管在旋转过程中出现卡死的现象。因此，对于目前的柱靶铁芯组件来说，还有待改进。

实用新型内容

本实用新型提供一种磁控溅射的柱靶铁芯结构，本实用新型能够避免冷却水对磁铁产生腐蚀。

实现上述目的的技术方案如下：

磁控溅射的柱靶铁芯结构，包括柱靶铁芯组件，还包括冷却介质流动管道、封装组件，所述柱靶铁芯组件和封装组件上设有轴向的通孔，柱靶铁芯组件位于密封在封装组件内，所述冷却介质流动管道穿过柱靶铁芯组件和封装组件上的轴向的通孔。

本实用新型工作时，将冷却介质输入到管道本体内，冷却介质沿着管道本体流动后从第一径向通孔输出到第一空间中，冷却介质沿着第一空间向第二径向通孔流动，最终从第二径向通孔输出。对于柱靶铁芯组件来说，防水罩和堵头对位于其中的柱靶铁芯组件形成了密封作用，对于柱靶铁芯组件的内部来说，冷却介质流动管道是穿过了柱靶铁芯组件和封装组件的，因此，无论是在柱靶铁芯组件的外部还是内部，冷却介质在流动过程中，冷却介质均无法作用到柱靶铁芯组件上，做到了磁水分离，从而避免了柱靶铁芯组件被腐蚀。

另外，采用上述的结构后，柱靶铁芯组件无需采用焊接方式固定，避免了柱靶铁芯组件变形，而且从装配的角度看，结构较为简单，可靠性高，易于装配和拆卸。

附图说明

图1为现有的柱靶铁芯组件的剖面结构图；

图2为本实用新型的磁控溅射的柱靶铁芯结构的剖视图；

图3为柱靶铁芯组件；

附图中的标记：