[实用新型]磁控溅射的柱靶铁芯结构

权利要求书

1.磁控溅射的柱靶铁芯结构，包括柱靶铁芯组件(A)，其特征在于，还包括冷却介质流动管道(11)、封装组件，所述柱靶铁芯组件(A)和封装组件上设有轴向的通孔，柱靶铁芯组件(A)位于密封在封装组件内，所述冷却介质流动管道(11)穿过柱靶铁芯组件(A)和封装组件上的轴向的通孔。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，柱靶铁芯组件(A)的截面呈圆型。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，冷却介质流动管道(11)包括：

管道本体(11a)；

一端具有盲孔的连接头(11b)，管道本体(11a)配合在连接头(11b)的盲孔内，连接头(11b)的周面上设有径向凸起部(11c)，径向凸起部(11c)与封装组件固定。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，冷却介质流动管道(11)为不锈钢管。

5.根据权利要求1或3或4所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，冷却介质流动管道(11)一端的周面上设有供冷却介质流动的第一径向通孔(12)。

6.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，所述封装组件包括：

防水罩(19)，柱靶铁芯组件(A)位于防水罩(19)内部；

设置在防水罩(19)两端的堵头(20)，堵头(20)的至少一部分插入到防水罩(19)内且密封，柱靶铁芯组件(A)的两端分别与堵头(20)配合。

7.根据权利要求1至6任意一项所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，还包括靶管组件，封装组件位于靶管组件内，封装组件与靶管组件之间形成有供冷却介质流动的第一空间(B)，冷却介质流动管道(11)的两端分别与靶管组件配合，靶管组件上设有供冷却介质流动的第二径向通孔(13)。

8.根据权利要求7所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，靶管组件包括：

靶管(14)；

第一接头(15)，第一接头(15)套在靶管(14)上并与靶管(14)固定，在靶管(14)与第一接头(15)之间设有第一密封部件(16)，第一接头(15)内设有台阶孔，冷却介质流动管道(11)的一端与台阶孔配合；

第二接头(17)，第二径向通孔(13)设置在第二接头(17)上，第二接头(17)套在靶管(14)上并与靶管(14)固定，在靶管(14)与第二接头(17)之间设有第二密封部件(18)，第二接头(17)上设有轴向通孔，所述冷却介质流动管道(11)的另一端穿过轴向通孔暴露在靶管组件的外部。