[实用新型]一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统

说明书

本实用新型提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，包括真空发生器，具内部腔室的液体缓存装置，连接真空发生器与液体缓存装置的第一真空管路，与液体缓存装置相连的液体排出管路，以及接入所述液体排出管路的第一阀门，液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过隔板将内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，隔板开设用以连通过滤室与缓存室的第三流通口，过滤室内填充气液分离过滤器，液体缓存装置的底壁开设连通液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入液体排出管路，从而避免缓存室内存储液体过多导致液体外溢流入真空发生器，从而保证了真空发生器不会进液损坏，满足了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。

技术领域

本实用新型涉及晶圆设备技术领域，更具体涉及一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统。

背景技术

晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，单片式晶圆清洗设备是整个晶圆制造工艺中不可或缺的必要步骤。在单片式晶圆清洗设备中，通常以真空发生器的真空产生端与吸附晶圆进行清洗的吸附装置相连，清洗溶液及清洗晶圆后产生的气液混合物难免会流入真空发生器影响真空发生器的效果，甚至损坏真空发生器。

现有的单片清洗机的厂务系统中，虽然增加了用以保护真空发生器的过滤装置，却依然存在气液混合物难以有效过滤清除，从而导致气液混合物流入真空发生器，以至于损坏真空发生器，使得单片式晶圆清洗设备稳定性变差的缺陷。

有鉴于此，有必要对现有技术中的单片式晶圆清洗设备的厂务系统的予以改进，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于公开一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，用以解决现有技术单片式晶圆清洗设备的厂务系统中，气液混合物流入真空发生器进而损坏真空发生器的缺陷，以满足提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，其特征在于，包括：

真空发生器，具内部腔室的液体缓存装置，连接所述真空发生器与所述液体缓存装置的第一真空管路，与所述液体缓存装置相连的液体排出管路，所述液体排出管路接入控制液体排出所述缓存室的第一阀门；

所述液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过所述隔板将所述内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，所述隔板形成用以连通所述过滤室与缓存室的第三流通口；

所述过滤室内填充用以分离流入所述过滤室内气液混合物的气液分离过滤器；

液体缓存装置的底壁开设连通所述液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入所述液体排出管路。

作为本实用新型的进一步改进，所述单片式晶圆清洗设备的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连接的第二真空管路；

液体缓存装置的侧壁开设连通所述过滤室与第二真空管路的第四流通口，以供气液混合物流入所述过滤室，所述侧壁开设连通所述过滤室与第一真空管路的第五流通口，以供气体流出所述过滤室。

作为本实用新型的进一步改进，所述液体缓存装置包括：所述侧壁形成用以监测所述缓存室内液体的视窗。

作为本实用新型的进一步改进，所述单片晶圆清洗的厂务系统还包括：与所述液体缓存装置连通的液体流入管路；

所述侧壁开设连通所述缓存室与液体流入管路的第二流通口，以供清洗液体流入所述缓存室。

作为本实用新型的进一步改进，所述液体流入管路接入控制清洗液体流入所述缓存室的第二阀门。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：